[发明专利]具有耐弯曲性的透明导电膜及其制备方法在审
申请号: | 201280074019.X | 申请日: | 2012-12-21 |
公开(公告)号: | CN104380394A | 公开(公告)日: | 2015-02-25 |
发明(设计)人: | 郑根;金仁淑;赵靖;金庚泽;金冻应;沈熙埈;崔圣玹 | 申请(专利权)人: | 乐金华奥斯有限公司 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 吕琳;杨生平 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 弯曲 透明 导电 及其 制备 方法 | ||
1.一种透明导电膜,其特征在于,包括:
透明基材;
硬涂层,其分别形成于所述透明基材的双面;以及
至少一个透明导电层,其形成于所述硬涂层上。
2.根据权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,所述硬涂层的厚度为2μm至4μm。
3.根据权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,所述硬涂层的厚度为3μm至4μm。
4.根据权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,所述硬涂层的硬度为1H至2H。
5.根据权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,在所述透明导电层的所述透明基材一侧的单面还包括1层以上的底涂层。
6.根据权利要求5所述的透明导电膜,其特征在于,所述底涂层包含硅氧化物。
7.根据权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于,所述透明导电膜的极限曲率半径为1cm至3cm。
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