[发明专利]锍盐、光产酸剂、固化性组合物和抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种由下述通式(1)表示的锍盐，

式(1)中的R表示烷基或者芳基，R¹～R³相互独立地表示烷基、羟基、烷氧基、芳基、芳氧基、羟基(聚)亚烷氧基、氰基、硝基或者卤素原子，m¹～m³各自表示R¹～R³的个数，m¹表示0～4的整数，m²和m³表示0～5的整数，X^-表示一价的多原子阴离子。

2.根据权利要求1所述的锍盐，其中，R为甲基或者苯基。

3.根据权利要求1或2所述的锍盐，其中，R¹～R³的个数m¹～m³各自为0。

4.根据权利要求1～3中任1项所述的锍盐，其中，X^-选自SbF₆^-、PF₆^-、BF₄^-、(CF₃CF₂)₃PF₃^-、(C₆F₅)₄B^-、((CF₃)₂C₆H₃)₄B^-、(C₆F₅)₄Ga^-、((CF₃)₂C₆H₃)₄Ga^-、三氟甲磺酸根阴离子、九氟丁磺酸根阴离子、甲磺酸根阴离子、丁磺酸根阴离子、樟脑磺酸根阴离子、苯磺酸根阴离子、对甲苯磺酸根阴离子、(CF₃SO₂)₃C^-、以及(CF₃SO₂)₂N^-表示的阴离子。

5.一种光产酸剂，其特征在于，含有权利要求1～4中任1项所述的锍盐。

6.一种能量射线固化性组合物，含有权利要求5所述的光产酸剂和阳离子聚合性化合物。

7.一种固化物，其特征在于，使权利要求6所述的能量射线固化性组合物固化而得到。

8.一种化学增幅型正性光致抗蚀剂组合物，含有成分A和成分B，所述成分A含有权利要求5所述的光产酸剂，所述成分B是因酸的作用而对碱的溶解性增大的树脂。

9.根据权利要求8所述的化学增幅型正性光致抗蚀剂组合物，其中，该成分B含有选自酚醛清漆树脂B1、多羟基苯乙烯树脂B2和丙烯酸树脂B3中的至少1种树脂。

10.根据权利要求8或9所述的化学增幅型正性光致抗蚀剂组合物，进一步含有碱溶性树脂C和酸扩散控制剂D。

11.一种抗蚀剂图案的制作方法，其特征在于，包括如下工序：

层叠工序，在支撑体上层叠由权利要求8～10中任1项所述的化学增幅型正性光致抗蚀剂组合物构成的膜厚10～150μm的光致抗蚀剂层而得到光致抗蚀剂层叠体；

曝光工序，对该光致抗蚀剂层叠体部位选择性地照射光或者放射线；以及

显影工序，在该曝光工序后将光致抗蚀剂层叠体显影而得到抗蚀剂图案。

12.一种化学增幅型负性光致抗蚀剂组合物，含有成分E、成分F和交联剂成分G，所述成分E含有权利要求5所述的光产酸剂，所述成分F是具有酚性羟基的碱溶性树脂。

13.根据权利要求12所述的化学增幅型负性光致抗蚀剂组合物，进一步含有交联微粒成分H。

14.一种固化物，其特征在于，使权利要求12或13所述的化学增幅型负性光致抗蚀剂组合物固化而得到。