[发明专利]含有离子性液体的口腔护理组合物在审

申请号：	201280077860.4	申请日：	2012-12-20
公开（公告）号：	CN104853736A	公开（公告）日：	2015-08-19
发明（设计）人：	M.佩特尔;M.哈桑;R.帕雷德斯	申请（专利权）人：	高露洁－棕榄公司
主分类号：	A61K8/49	分类号：	A61K8/49;A61Q11/00;A61K31/415
代理公司：	中国专利代理(香港)有限公司 72001	代理人：	童春媛;刘力
地址：	美国***	国省代码：	美国;US
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摘要：
搜索关键词：	含有离子液体口腔护理组合
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【权利要求书】：

1.一种含有离子性液体的口腔护理组合物，其中，所述离子性液体含有：

a)吡唑阳离子

b)选自水杨酸根、醋酸根、卤离子、磷酸根、烷基磷酸根、膦酸根、焦磷酸根、六偏磷酸根、聚偏磷酸根、正磷酸根、三聚磷酸根、硫酸根、烷基硫酸根、十二烷基硫酸根、苯酚硫酸根、苯甲酸根、乙酰丙酮根、羧酸根、枸橼酸根、抗坏血酸根、二氰胺、L-氨基酸或D-氨基酸、乙醇酸根、葡萄糖酸根、马来酸根、甜味剂阴离子、氢氧根、琥珀酸根、酒石酸根、丁二酸二辛基磺酸根、亚油酸根、油酸根和甲苯磺酸根的阴离子。

2.权利要求1的口腔护理组合物，其中，所述吡唑阳离子由至少一个烷基取代。

3.权利要求1或2的口腔护理组合物，其中，所述吡唑阳离子为下式的吡唑阳离子：

其中，取代基 R₁、R₂、R₃、R₄和R₅相同或不同，独立地选自H和C₁-C₁₀烷基。

4.上述权利要求中任一项的口腔护理组合物，其中，R₁、R₂、R₃、R₄和R₅中的任意1个为C₁-C₄烷基。

5.上述权利要求中任一项的口腔护理组合物，其中，R₁、R₂、R₃、R₄和R₅中的任意2个为C₁-C₄烷基。

6.上述权利要求中任一项的口腔护理组合物，其中，R₁、R₂、R₃、R₄和R₅中的任意3个为C₁-C₄烷基。

7.上述权利要求中任一项的口腔护理组合物，其中，R₁、R₂、R₃、R₄和R₅中的任意1个为甲基。

8.上述权利要求中任一项的口腔护理组合物，其中，R₁、R₂、R₃、R₄和R₅中的任意2个为甲基。

9.上述权利要求中任一项的口腔护理组合物，其中，R₁、R₂、R₃、R₄和R₅中的任意3个为甲基。

10.权利要求1~3中任一项的口腔护理组合物，其中，R₁、R₂和R₄为C₁-C₄烷基，R₃和R₅为H。

11.权利要求1~4中任一项的口腔护理组合物，其中，所述吡唑阳离子为1,2,4-三甲基吡唑。

12.上述权利要求中任一项的口腔护理组合物，其中，所述阴离子为烷基硫酸根。