[发明专利]OLED玻璃基板蒸镀机

说明书

技术领域

本发明涉及一种OLED玻璃基板蒸镀机。

背景技术

如图1所示，现有的OLED玻璃基板蒸镀机都采用点蒸发源的方式，而且大部分是采用两个点蒸发源。第一点蒸发源2和第二点蒸发源3设置在玻璃基板4下方，且在对称设置在玻璃基板4的几何中心的两侧，在玻璃基板4与点蒸发源之间设置有主挡板1。蒸镀前主挡板1处于关闭状态，工作时，将需要蒸镀的材料放入点蒸发源中，并加热；玻璃基板4在水平方向上以自身的几何中心为中心旋转，当蒸汽的喷射速度达到设定值时，打开主挡板1，使蒸发出来的物质附着在玻璃基板4上；当蒸镀材料在玻璃基板4上形成规定厚度的膜层时，关闭主挡板1，遮挡住玻璃基板4，并关闭点蒸发源，完成蒸镀。这种采用双点蒸发源的方式有利于提高蒸镀效率，控制蒸镀面积。但双点蒸发源的方式存在一个缺陷，如图1所示，为了防止蒸镀时出现遗漏，两个点蒸发源在玻璃基板4上的蒸镀范围有部分重合，出现重合区域6，重合区域6位于玻璃基板4的中间位置，附着在重合区域6内的蒸镀物质的量为其他部分的两倍，所以在中间部分的膜层厚度几乎是边缘部分的两倍。蒸镀的膜层厚度不均匀就会导致OLED器件性能差异，包括亮度不均、色坐标不均等不良现象。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种OLED玻璃基板蒸镀机，此OLED玻璃基板蒸镀机极大地提高蒸镀的均一性，进而改善玻璃基板上膜层厚度的一致性，提高产品质量。

本发明解决技术问题所采用的技术方案是：此OLED玻璃基板蒸镀机包括主挡板和位于所述主挡板下方的第一点蒸发源和第二点蒸发源，玻璃基板设置于所述主挡板上方，所述第一点蒸发源和第二点蒸发源在玻璃基板上的蒸镀范围存在重合区域，还包括子挡板，所述子挡板设置于所述玻璃基板下方，且能够遮挡所述重合区域。通过控制子挡板开启和关闭的时间，使玻璃基板上的重合区域与其他部分附着的蒸镀物质接近均衡，改善蒸镀均一性。

为更好地控制子挡板的开启和关闭的时间比，获得更好的蒸镀均一性，所述子挡板的几何中心与所述玻璃基板的几何中心在竖直方向上共轴。

本发明的有益效果是：此OLED玻璃基板蒸镀机通过增加设置子挡板，改变了蒸镀玻璃基板时，位于中间部分的重合区域的蒸镀时间，有效控制了重合区域内附着蒸镀物质的量，使蒸镀物质在整个玻璃基板上的分布更均一，形成的膜层厚度的一致性更好。采用此OLED玻璃基板蒸镀机，极大地改善了玻璃基板各个部分的亮度均一性和色坐标的准确性，进而改善玻璃基板的整体光学性能，提高产品质量，减低废品率。此OLED玻璃基板蒸镀机操作方便，自动化程度高。

附图说明

图1是现有的OLED玻璃基板蒸镀机的工作原理示意图。

图2是本发明OLED玻璃基板蒸镀机的工作原理示意图。

具体实施方式

如图2所示，在待加工的玻璃基板4的下方设置子挡板5。蒸镀过程是，关闭主挡板1和子挡板5，开启第一点蒸发源2和第二点蒸发源3，使蒸镀物质受热蒸发，当蒸镀物质的流速和密度达到设定参数要求时，打开主挡板1，蒸镀物质附着在玻璃基板4上。由于子挡板5的遮挡，玻璃基板4上的重合区域6内没有蒸镀物质。在适当时间打开子挡板5，蒸镀物质继续向整个玻璃基板4上附着，但从第一点蒸发源2和第二点蒸发源3中蒸发出来的蒸镀物质都附着在重合区域6内，重合区域6内蒸镀物质的积累速度是其他区域的两倍，这样在继续蒸镀一段时间后，重合区域6与其他区域附着的蒸镀物质的量接近均衡，如果时间控制精确，可以做到相等，此时关闭主挡板1，完成蒸镀过程。蒸镀物质冷却后形成的膜层厚度更均匀，蒸镀后的玻璃基板4在亮度、色坐标等方面的光学性能更好，产品整体质量更高。

基于蒸镀均匀性的要求，和简化控制程序，第一点蒸发源2和第二点蒸发源3一般采用同种产品，这样从第一点蒸发源2和第二点蒸发源3射出的蒸汽流的角度和覆盖面积基本相同，重合区域6正好处于玻璃基板4的中心位置。所以，将子挡板5的几何中心于玻璃基板4的几何中心在竖直方向上共轴，更有利于计算和控制子挡板5的开启时间，而且在设计子挡板5的形状和尺寸时也更便于计算。

子挡板5的形状、尺寸、打开的时间点和持续时间的长短，根据蒸镀膜层厚度、重合区域6的面积、玻璃基板4与点蒸发源之间的距离等因素设定。以目前蒸镀OLED玻璃基板的要求为例，在玻璃基板4上附着蒸镀物质的厚度为1500埃，单个点蒸发源的蒸镀速度为3埃/秒，由于玻璃基板4在蒸镀过程中处于旋转状态，所以玻璃基板4每旋转一周，每个位置先后经过第一点蒸发源2和第二点蒸发源3上方，所以整个蒸镀时间为250秒。据此可以推算出，从打开主挡板1时开始计时，主挡板1打开125秒后，重合区域6上蒸镀物质的厚度为0埃，而玻璃基板4上其他区域的蒸镀物质的厚度为750埃，此时打开子挡板5，从第一点蒸发源2和第二点蒸发源3蒸发出来的蒸镀物质同时附着在重合区域6，重合区域6的蒸镀速度为12埃/秒，再经过125秒，重合区域6的蒸镀物质的厚度为1500埃；而玻璃基板4上除重合区域6以外的其他区域的蒸镀速度始终为6埃/秒，总共蒸镀250秒，蒸镀物质的厚度同样为1500埃，整个玻璃基板4上各个部分附着的蒸镀物质的厚度达到均衡。