[发明专利]基于氮化铜薄膜的一次写入型双面光盘及其制造方法

权利要求书

1.一种基于氮化铜薄膜的一次写入型双面光盘，其特征在用于该双面光盘主要分为五层，依次包括第一基板（1）、第一记录层（2）、吸收层（3）、第二记录层（4）和第二基板（5）；

第一基板（1）和第二基板（5）分别是光盘的第一层和第五层，它们是光盘其它部分的载体，也是整个光盘的物理外壳；

第一记录层（2）和第二记录层（4）分别是光盘的第二层和第四层，它们是烧录时刻录信号的地方，利用磁控溅射方法制备的氮化铜薄膜一次性光存储介质，由于烧录前后的反射率不同，读取不同长度的信号时，通过反射率的变化形成0与1信号，借以读取信息；

吸收层（3）是光盘的第三层，它是吸收多余红外线的区域，将透过第一记录层（2）和第二记录层（4）的多余红外线吸收。

2. 一种如权利要求1所述的基于氮化铜薄膜的一次写入型双面光盘的制造方法，其特征在于制备方法具体为：

a. 选择稳定性强的透明材料为基底，利用磁控溅射镀膜方法制备出两份镀有氮化铜薄膜的基底；

b. 在完成上一步后，将两份镀有氮化铜薄膜的基底加工成所需的相同尺寸和形状，其中之一的基底作为第一基板（1），氮化铜薄膜作为第一记录层（2），另外的基底作为第二基板（5），氮化铜薄膜作为第二记录层（4）；

c. 上述加工完成后，将具有良好吸收红外线能力的材料填充在第一记录层（2）与第二记录层（4）之间，并将它们粘贴起来，使其夹在第一记录层（2）与第二记录层（4）之间作为吸收层（3），将透过氮化铜薄膜记录层的红外线吸收；

d. 上述加工全部完成后得到基于氮化铜薄膜的一次写入型双面光盘。

3. 如权利要求2所述的基于氮化铜薄膜的一次写入型双面光盘的制造方法，其特征在于步骤a中，利用磁控溅射镀膜方法制备出两份镀有氮化铜薄膜的基底，是在真空度为1Pa的真空室，以Cu为靶材，N₂为反应气体制备的，待其自然冷却后将其取出，然后将其加工作为基板和记录层。

4. 如权利要求2所述的基于氮化铜薄膜的一次写入型双面光盘的制造方法，其特征在于所述稳定性强的透明材料为K9玻璃、石英玻璃或PC材料。

5. 如权利要求2所述的基于氮化铜薄膜的一次写入型双面光盘的制造方法，其特征在于所述良好吸收红外线能力的材料为红外吸收颜料。