[发明专利]光学膜的制造方法有效
申请号: | 201310006166.X | 申请日: | 2013-01-08 |
公开(公告)号: | CN103289109B | 公开(公告)日: | 2017-04-05 |
发明(设计)人: | 高瀬雅典 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人: | 臧建明 |
地址: | 日本东京港区*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种光学膜的制造方法。
背景技术
随着液晶显示器(LCD)的薄化,对构成LCD的各光学膜的薄化要求越来越高。由于视作光学膜的光学特性之一的相位差由双折射与厚度之积表示,因此需要根据厚度控制双折射。即,需要根据光学膜的薄化,提高双折射、尤其需要提高厚度方向的双折射Rth。
另一方面,作为膜的制造方法,有熔融挤出方法和溶液制膜方法。熔融挤出方法为使聚合物熔融之后,用挤出机挤出而制造膜的方法。该方法具有生产率高,设备成本也较低等特征。但是,熔融挤出方法经常导致在膜面显现较细的条纹。膜越薄该较细的条纹对膜的光学特性的影响越大。
与此相比,溶液制膜方法为通过使聚合物溶解于溶剂的聚合物溶液(以下称为浓液)在支承体上流出来形成流延膜,从支承体剥下流延膜并干燥从而制造膜的方法。与熔融挤出方法相比,溶液制膜方法易调节膜的厚度,能够制造膜面更平滑的膜。而且,溶液制膜方法能够得到含杂质较少的膜。从这些观点出发,用于LCD的光学膜中由溶液制膜方法制造的光学膜居多。例如,用作偏光板保护膜或相位差膜的膜中例如有纤维素酰化物膜,该纤维素酰化物膜等主要由溶液制膜方法制造。
作为提高相位差的方法,例如,如日本专利公开2002-131538号公报所记载,有使膜中包含具有使相位差上升的作用的化合物、所谓相位差提高剂的方法。作为提高相位差的其他方法,例如如日本专利公开2008-238526号公报、日本专利公开2010-262209号公报、日本专利公开2011-002634号公报及日本专利公开2011-113026号公报所记载,有对构成膜的材料进行改良或使膜中含有特定化合物的方法。并且,作为独立控制Re与Rth的方法,如日本专利公开2010-128378号公报所记载,有组合具有基于分子取向性双折射的负光学性各向异性的层和光学性上为大致各向同性的层,并通过特定材料形成这些各层的方法。
并且,为了控制光学特性,还提出有如下方法:如日本专利公开2006-205729号公报和日本专利公开2008-162289号公报做记载,使用折射率不同的多个聚合物,由各聚合物形成各层来将膜设为多层结构。
日本专利公开2002-131538号公报所记载的方法,虽对Re的上升有一定的效果,但几乎没有使Rth上升的效果。并且,日本专利公开2002-131538号公报和日本专利公开2008-238526号公报所记载的方法,在浓液制造设备中需要将相位差提高剂在线添加到浓液中的添加线,因此存在确保设备空间和增设添加线导致的成本上升的问题。并且使用相位差提高剂本身也会导致光学膜的成本大幅上升。
根据日本专利公开2010-262209号公报、日本专利公开2011-002634号公报及日本专利公开2011-113026号公报所记载的方法,例如能够制造以40μm的薄度显示280nm的Rth的膜。但是日本专利公开2010-262209号公报、日本专利公开2011-002634号公报及日本专利公开2011-113026号公报所记载的方法由于只能定量使用特定材料及添加物,因此所制造的膜的种类受限制,并且成本上升。并且,日本专利公开2011-002634号公报及日本专利公开2011-113026号公报所记载的方法中,越使Rth上升,Re也会大幅上升。日本专利公开2010-128378号公报所记载的方法虽然能够独立控制Re和Rth,但该方法也只能使用特定材料,因此所制造的膜的种类受限制,并且成本上升。
并且,日本专利公开2006-205729号公报、日本专利公开2008-162289号公报所记载的方法为制造反射光的反射膜,例如具有金属光泽的膜的方法,因此将折射率之差较大的聚合物用作材料来组合成层状。因此,日本专利公开2006-205729号公报、日本专利公开2008-162289号公报所记载的方法无法制造偏光板保护膜或相位差膜之类的要求透明性的光学膜。
发明内容
因此,本发明的目的在于提供一种无需使用相位差提高剂等特定化合物就选择性地提高光学膜的Rth的光学膜的制造方法。
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