[发明专利]一种用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合靶材及应用

权利要求书

1.一种用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合靶材，其特征在于，复合结构靶材为靶壳及磁性材料靶材构成，靶壳紧固于磁性材料靶材外围；其中，靶壳选用高磁导率的软磁性材料靶壳，靶壳上附加相同温度时饱和蒸气压和二次电子发射产额均低于磁性材料靶材的金属环或陶瓷相材料层所形成的环状复合结构。

2.按照权利要求1所述的用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合靶材，其特征在于，靶壳采用高磁导率的软磁性材料、附加饱和蒸气压和二次电子发射产额普遍低于相同温度时的铁磁性材料的Ti、Mo、Nb或Pb金属靶壳。

3.按照权利要求1或2所述的用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合靶材，其特征在于，靶壳上附加的金属环紧固于靶壳外围。

4.按照权利要求1所述的用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合靶材，其特征在于，靶壳采用高磁导率的软磁性金属环，高磁导率的软磁性金属环采用工业纯Fe或坡莫合金。

5.按照权利要求1或4所述的用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合靶材，其特征在于，靶壳上附加的陶瓷相材料层通过气相沉积、喷涂或者真空热压方法固定于高磁导率的软磁性金属环在与靶面平行方向的面上。

6.按照权利要求1或4所述的用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合靶材，其特征在于，低饱和蒸气压的金属环及软磁性金属环的内径大于磁性材料靶材的外径，低饱和蒸气压的金属环及软磁性金属环与磁性材料靶材通过螺纹或者螺栓连接固定。

7.一种利用权利要求1所述复合靶材在电弧离子镀沉积磁性材料涂层的应用。

8.按照权利要求7所述的用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合靶材的应用，其特征在于，采用复合结构靶材用于沉积磁性材料涂层时，高磁导率的软磁材料用于改善引弧起始阶段磁性靶材的磁短路，低饱和蒸气压和二次电子发射产额的金属环或陶瓷相材料层用于避免低于磁性靶材的居里温度时出现的“跑弧”。