[发明专利]用于沉积薄膜的设备和方法

权利要求书

1.一种薄膜沉积设备，所述薄膜沉积设备包括：

基底支撑单元，支撑基底；

沉积源，使沉积材料蒸发以将沉积材料的蒸汽供应到基底的表面上；以及

沉积源移动单元，使沉积源运动，从而沉积源相对于基底支撑单元移动，

其中，沉积源包括：蒸发间，在蒸发间内使沉积材料蒸发以产生沉积材料的蒸汽；喷嘴单元，具有沉积材料的蒸汽被输出到基底所经过的输出孔；蒸汽供应单元，连接蒸发间和喷嘴单元，并向喷嘴单元供应沉积材料的蒸汽；光辐射单元，放置在喷嘴单元的一侧，并辐射光以使基底的沉积有沉积材料的区域硬化；以及蒸发间移动单元，使蒸发间相对于蒸汽供应单元进行相对移动，并且使得蒸发间、蒸汽供应单元和喷嘴单元排列在同一行。

2.如权利要求1所述的薄膜沉积设备，其中，基底支撑单元在基底沿上下方向直立的状态下支撑基底，沉积源移动单元使沉积源在基底的上部和下部之间沿上下方向移动，光辐射单元放置在喷嘴单元的上侧和下侧中的至少一侧。

3.如权利要求1所述的薄膜沉积设备，其中，基底支撑单元以将要被沉积沉积材料的表面面向下的方式来支撑基底，喷嘴单元将沉积材料的蒸汽供应到设置在基底支撑单元的下侧处的基底，光辐射单元沿着沉积源的移动方向放置在喷嘴单元的前面和后面中的至少一面。

4.如权利要求1所述的薄膜沉积设备，其中，光辐射单元辐射紫外线。

5.如权利要求1所述的薄膜沉积设备，其中，蒸发间包括：

容器，具有内部空间；

喷射喷嘴，与容器接合，并将液化的沉积材料雾化到容器的内部空间中；以及

第一加热器，围绕容器并加热容器的内部空间。

6.如权利要求5所述的薄膜沉积设备，其中，蒸发间还包括连接容器和蒸汽供应单元的传输喷嘴，并且具有比容器的内部直径小的第一内部直径；

其中，蒸汽供应单元包括具有第一区域、第二区域和第三区域的供应喷嘴，

第一区域接合到传输喷嘴，并且具有比第一内部直径小的第二内部直径，

第二区域具有比第二内部直径大且比容器的内部直径小的第三内部直径，并且接合到喷嘴单元，以及

第三区域连接第一区域和第二区域并且具有内部直径，第三区域的内部直径随着第三区域变得靠近于第二区域而逐渐增大。

7.如权利要求6所述的薄膜沉积设备，其中，蒸汽供应单元还包括：

第二加热器，围绕着供应喷嘴，以加热供应喷嘴；以及

冷却块，围绕着第二加热器，以冷却第二加热器的外围区域。

8.如权利要求5所述的薄膜沉积设备，其中，蒸汽供应单元包括连接容器和喷嘴单元且具有折皱区域的供应喷嘴，折皱区域的形状根据蒸发间的移动而变化。

9.如权利要求5所述的薄膜沉积设备，其中，蒸发间还包括：

沉积材料供应单元，将液化的沉积材料供应到喷射喷嘴；以及

气体供应单元，将载气供应到喷射喷嘴。

10.一种薄膜沉积方法，所述薄膜沉积方法包括：

通过如权利要求1所述的薄膜沉积设备使沉积材料蒸发，以产生沉积材料的蒸汽并经由在喷嘴单元处形成的输出孔将沉积材料的蒸汽输出到基底的一个表面。

11.如权利要求10所述的薄膜沉积方法，其中，喷嘴单元沿直线从基底的一端移动到基底的另一端。

12.如权利要求11所述的薄膜沉积方法，其中，以基底沿上下方向直立的状态来支撑基底，喷嘴单元在基底的下部和上部之间移动。

13.如权利要求11所述的薄膜沉积方法，其中，将基底设置成使得基底的沉积有沉积材料的表面面向下，并且喷嘴单元在基底的下面移动。

14.如权利要求11所述的薄膜沉积方法，其中，沿着喷嘴单元的移动方向在喷嘴单元的前面和后面中的至少一面准备光辐射单元，光辐射单元与喷嘴单元一起移动，使得光辐射在基底的沉积有沉积材料的区域上。

15.如权利要求14所述的薄膜沉积方法，其中，光辐射单元辐射紫外线。

16.如权利要求10所述的薄膜沉积方法，其中，通过利用具有比容器的内部直径小的内部直径的喷射喷嘴使液化的沉积材料雾化到容器中并加热容器的内部空间来使沉积材料蒸发。