[发明专利]热反应型抗蚀剂材料、使用它的热光刻用层压体以及使用它们的模具的制造方法

权利要求书

1.一种热反应型抗蚀剂材料，其用于使用了氟碳系气体的干蚀刻中，其特征在于，含有选自由Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、Ti、Zr、Hf、Nb、Ta、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Zn、Al、Ga、In、Sn、Pb、Sb以及Bi构成的金属组（α）以及由V、Mo、W、Ge、Se及Te构成的金属组（β）之中的2种金属构成的2元复合金属材料，并且所述金属中的至少一种选自金属组（α）之中，且所述复合金属材料至少通过氧化、熔融、相变化的任意一个形成图案。

2.根据权利要求1所述的热反应型抗蚀剂材料，其特征在于，含有选自由Mg、Ti、Zr、Nb、Ta、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Zn、Al、Ga、In、Pb、Sb以及Bi构成的金属组（γ）以及由V、Mo、W、Ge以及Te构成的金属组（δ）之中的2种金属，并且所述金属中的至少一种选自金属组（γ）之中。

3.根据权利要求1所述的热反应型抗蚀剂材料，其特征在于，含有In-Sb、Sn-Sb、Cr-Sb、Ga-Sb、In-Sn、Ni-Sn、Al-Sn、Bi-Sn、Sn-Pb、Ni-Bi、Zn-Sb、Ni-Cr、Ni-Nb、Al-Ni、Cu-Zr、Ag-Zn、Ge-Sb、Sb-Te、Bi-Te、Ni-W、Zn-Te、Pb-Te、Mo-Nb、W-Nb、Cr-Mo、Cu-V所示的金属种类组合之中的任意一种。

4.根据权利要求3所述的热反应型抗蚀剂材料，其特征在于，含有In₅Sb₉₅、In₃₂Sb₆₈、In₆₈Sb₃₂、In₁Sb₉₉、Sn₅₀Sb₅₀、Cr₅₀Sb₅₀、Ga₅₀Sb₅₀、Ga₄₀Sb₆₀、Ga₃₀Sb₇₀、Ga₂₀Sb₈₀、Ga₁₂Sb₈₈、Ga₁₀Sb₉₀、In₄₇Sn₅₃、In₅₃Sn₄₇、Ni_80.7Sn_19.3、Al_2.2Sn_97.8、Bi₄₃Sn₅₇、Sn₂₆Pb₇₄、Sn₂₅Pb₇₅、Sn₇₄Pb₂₆、Ni₅₀Bi₅₀、Ni₄₀Bi₆₀、Ni₆₀Bi₄₀、Ni₇₀Bi₃₀、Ni₈₀Bi₂₀、Ni₉₀Bi₁₀、Zn₃₂Sb₆₈、Ni₅₀Cr₅₀、Ni_83.8Nb_16.2、Ni_59.8Nb_40.2、Al_97.3Ni_2.7、Cu_90.6Zr_9.4、Ag₇₀Zn₃₀、Ge₁₀Sb₉₀、Ge₂₀Sb₈₀、Ge₃₀Sb₇₀、Ge₅₀Sb₅₀、Bi₉₀Te₁₀、Bi₉₇Te₃、Ni₈₁W₁₉、Zn₅₀Te₅₀、Pb₅₀Te₅₀、Mo₄₀Nb₆₀、Mo₅₀Nb₅₀、W₄₀Nb₆₀、W₅₀Nb₅₀、Cr₈₅Mo₁₅中的任意一种。