[发明专利]阵列基板修复装置及方法

说明书

技术领域

本发明涉及液晶制造技术，更具体地说，涉及一种阵列基板修复装置及方法。

背景技术

在液晶的阵列基板制造过程中，利用光罩对基底上的刻蚀层进行光照后，会在刻蚀层上留下曝光后的图形。在这类操作中，若是曝光不够充分，则有可能出现曝光后的图形中存在多余光阻的情况，此时需要对多余的光阻进行修补。在现有的技术中，工程人员需要在找到该多余的光阻后，进行手动定位，然后对多余的光阻进行移除或修补的动作。由于阵列基板上形成的图形结构精密，采用人工定位的操作复杂繁琐，时常可能出现定位失误而导致修补失败。

发明内容

本发明的目的在于，针对现有的阵列基板修复技术中，容易出现定义失误而导致修补失败的缺陷，提供一种阵列基板修复装置及方法以克服该缺陷。本发明的一个方面，提供一种阵列基板修复装置，包括：

激光源，用于修复阵列基板上的多余光阻；

检测装置，用于检测阵列基板上是否存在多余光阻；

过滤镜片，用于使激光源出射的光照射在阵列基板的多余光阻上以修复该多余光阻；

其中，过滤镜片设置在阵列基板上方，激光源设置在过滤镜片上方，检测装置设置在阵列基板的上方。

本发明的阵列基板修复装置，检测装置包括图像采集器，用于获取阵列基板上的图案；以及图像对比器，用于对比阵列基板上的图案和预先设置的目标图案，确定是否存在多余光阻。

本发明的阵列基板修复装置，还包括显示装置，显示装置与检测装置连接，用于显示阵列基板上的图案。

本发明的阵列基板修复装置，过滤镜片上包括遮光区与透光区，遮光区的图案与阵列基板上的正确图案相匹配。

本发明的另一个方面，提供一种阵列基板修复方法，包括以下步骤：

检测阵列基板上是否存在多余光阻；

若存在多余光阻，将过滤镜片设置在阵列基板上，激光源设置在过滤镜片上，使得激光源出射的激光在经过过滤镜片后，照射在多余光阻上；

使用激光源出射的激光对多余光阻进行曝光修复。

本发明的阵列基板修复方法，检测阵列基板上是否存在多余光阻的步骤包括：

获取阵列基板上的图案；

将阵列基板上的图案与预先设置的目标图案比较。

本发明的阵列基板修复方法，还包括显示阵列基板上的图案。

本发明的阵列基板修复方法，还包括在过滤镜片上形成遮光区与透光区，遮光区的图案与阵列基板上的正确图案相匹配。

实施本发明的阵列基板修复装置及方法，在进行阵列基板上多余光阻的修复时，无需进行人工定位，通过过滤镜片快速、准确地对阵列基板进行修复，从而提高了修复过程的工作效率以及修复质量。

附图说明

以下结合附图对本发明进行说明，其中：

图1为本发明阵列基板修复装置优选实施例的示意图；

图2.a为正常状态下的阵列基板示意图；

图2.b为使用图1所示的阵列基板修复装置进行修复的带有多余光阻的阵列基板示意图；

图2.c为图1所示的阵列基板修复装置中过滤镜片的示意图；

图3为本发明阵列基板修复方法优选实施例的流程图；

图4为使用图3所示的方法进行暗点修复的阵列基板示意图；

图5为使用图3所示的方法进行暗点修复时的过滤镜片示意图。

具体实施方式

以下结合附图与具体实施方式对本发明进行说明。

如图1所示为本发明阵列基板修复装置一则优选实施例的示意图，在本实施例中阵列基板300为已经经过曝光，在其表面留有图案的基板。阵列基板修复装置要对其表面留下的图案进行检查修复。

在阵列基板300上方设置有过滤镜片200，过滤镜片200上设置有遮光区201和透光区202，遮光区201与原定在该阵列基板300上形成的理想刻蚀图形相对应。在过滤镜片200的上方设置有激光源100，激光源100发出的光能够透过过滤镜片200上的透光区202，同时会被遮光区201完全阻挡。由于有遮光区201将激光源100的光挡住，仅在阵列基板300的多余光阻上会受到激光的照射，正常区域不会受到曝光。