[发明专利]玻璃基板的制造方法以及玻璃基板有效
| 申请号： | 201310014831.X | 申请日： | 2009-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN103121792A | 公开（公告）日： | 2013-05-29 |
| 发明（设计）人： | 加藤嘉成;松木栄司 | 申请（专利权）人： | 日本电气硝子株式会社 |
| 主分类号： | C03B25/00 | 分类号： | C03B25/00 |
| 代理公司： | 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 | 代理人： | 陈波;朱弋 |
| 地址： | 日本滋贺*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 玻璃 制造 方法 以及 | ||
1.一种玻璃基板的制造方法，其特征在于，包括下述工序：
成型工序，其利用下拉法将熔融玻璃成型为带状；
退火工序，其对玻璃带进行退火；以及
切割工序，其对玻璃带进行切割，从而得到玻璃基板，
所述退火工序包括：
将玻璃冷却至退火点为止的第一退火阶段；
将玻璃冷却至Tx为止的第二退火阶段，其中，Tx是落在从比退火点低50°C的温度至比退火点低200°C的温度之间的温度；以及
将玻璃冷却至比Tx低250°C的温度为止的第三退火阶段，
使得第二退火阶段的平均冷却速度低于第一退火阶段的平均冷却速度。
2.根据权利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，
第一退火阶段的平均冷却速度大于或等于30°C/分钟，该第一退火阶段的平均冷却速度被定义为从比退火点高100°C的温度至退火点为止的平均冷却速度。
3.根据权利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，
使得第三退火阶段的平均冷却速度高于第二退火阶段的平均冷却速度。
4.根据权利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，
第三退火阶段的平均冷却速度大于或等于50°C/分钟，该第三退火阶段的平均冷却速度被定义为从Tx至比Tx低250°C的温度为止的平均冷却速度。
5.根据权利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，
以使得所述玻璃带的有效宽度大于或等于500mm的方式，将熔融玻璃成型。
6.根据权利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，
所述下拉法为溢流下拉法。
7.根据权利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，使用液相粘度大于或等于104.5dPa·s的玻璃。
8.根据权利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，使用应变点大于或等于600°C的玻璃。
9.根据权利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，
使用以质量百分比计，含有SiO250～70％、Al2O310～25％、B2O33～15％、MgO0～10％、CaO0～15％、SrO0～15％、BaO0～15％、Na2O0～5％的玻璃。
10.根据权利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，该制造方法是平板显示器所使用的玻璃基板的制造方法。
11.根据权利要求10所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，
所述平板显示器是在基板上形成有低温p-SiTFT的显示器。
12.一种玻璃基板，其特征在于，
使用权利要求1～11中任意一种方法制作。
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