[发明专利]涂层、涡轮构件和制造涡轮构件的工艺

权利要求书

1. 一种涂层，包括：

由陶瓷微粒形成的陶瓷相；以及

比所述陶瓷相具有更大的延展性的延展性基质；

其中，所述陶瓷相包括与所述陶瓷微粒基本相同的微结构。

2. 根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述陶瓷微粒选自由下者组成的组：碳化钨、碳化铬、氧化锆、氧化铪、氧化铝、莫来石、硅铝氧氮陶瓷和它们的组合。

3. 根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述陶瓷微粒包括碳化钨，并且所述陶瓷相基本没有碳化二钨。

4. 根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述陶瓷相基本没有脱碳陶瓷。

5. 根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述陶瓷相基本没有氧化陶瓷。

6. 根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述延展性基质包括不锈钢。

7. 根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述延展性基质包括MCrAlY合金。

8. 根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述延展性基质包括镍基合金和钴基合金中的一个或两者。

9. 根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述延展性基质包括介于大约20.0重量%和大约23.0重量%之间的铬、高达大约5.0重量%的铁、介于大约8.0重量%和大约10.0重量%之间的钼、介于大约3.2重量%和大约4.2重量%之间的铌、高达大约1.0重量%的钴、高达大约0.5重量%的锰、高达大约0.4重量%的铝、高达大约0.4重量%的钛、高达大约0.5重量%的硅、高达大约0.1重量%的碳、高达大约0.015重量%的硫、高达大约0.015重量%的磷、附带杂质和余量为镍(例如高达大约58.0重量%)的复合物。

10. 根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述延展性基质包括高达大约0.06重量%的碳、高达大约0.35重量%的锰、高达大约0.35重量%的硅、高达大约0.020重量%的磷、高达大约0.015重量%的硫、介于大约14.5重量%和大约17.5重量%之间的铬、高达大约1.00重量%的钴、高达大约0.40重量%的铝、介于大约1.50重量%和大约2.00重量%之间的钛、高达大约0.006重量%的硼、高达大约0.30重量%的铜、介于大约39.0重量%和大约44.0重量%之间的镍和钴、介于大约2.50重量%和大约3.30重量%之间的铌和钽、附带杂质和余量为铁的复合物。

11. 根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述延展性基质包括介于大约50.0重量%和大约55.0重量%之间的镍、介于大约17.0重量%和大约21.0重量%之间的铬、介于大约2.8重量%和大约3.3重量%之间的钼、介于大约4.75重量%和大约5.5重量%之间的铌、高达大约1.0重量%的钴、高达大约0.35重量%的锰、介于大约0.65重量%和大约1.15重量%之间的铝、高达大约0.3重量%的钛、高达大约0.35重量%的硅、高达大约0.08重量%的碳、高达大约0.015重量%的硫、高达大约0.015重量%的磷、高达大约0.006重量%的硼、附带杂质和余量为铁的复合物。

12. 根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述延展性基质包括介于大约55重量%和大约59重量%之间的镍、介于大约19重量%和大约22.5重量%之间的铬、介于大约7重量%和大约9.5重量%之间的钼、高达大约0.35重量%的铝、介于大约1重量%和大约1.7重量%之间的钛、介于大约2.75重量%和大约4重量%之间的铌、附带杂质和余量为铁的复合物。

13. 根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述延展性基质包括介于大约20.5重量%和大约23.0重量%之间的铬、介于大约8.00重量%和大约10.0重量%之间的钼、高达大约1.00%的锰、介于大约0.05重量%和大约0.15重量%之间的碳、高达大约1.00重量%的硅、介于大约17.0重量%和大约20.0重量%之间的铁、附带杂质和余量为镍的复合物。