[发明专利]钨酸铵或钼酸铵溶液深度净化除杂工艺

说明书

技术领域

本发明属于钨湿法生产仲钨酸铵、钼湿法生产仲钼酸铵技术领域，特别涉及一种钨酸铵溶液、钼酸铵溶液深度净化除杂工艺。

背景技术

仲钨酸铵是钨湿法冶炼工艺的重要中间产品。钨精矿分解—仲钨酸铵生产工艺主要包括矿石分解、转型得到粗钨酸铵溶液、粗钨酸铵溶液除杂、结晶得到仲钨酸铵及结晶母液，结晶母液循环回收等步骤。其中转型得到的粗钨酸铵溶液因含有P、As、Si杂质，因此需要进行净化除杂。经典的净化除杂方法是在钨酸铵溶液中定量加入氯化镁，形成镁盐沉淀，并保持Mg=0.1g/l左右与磷形成平衡，再在滤液中加入固体硅酸，除去多余的镁离子，并且溶液要存放48小时以上，但此种工艺难以保证能将磷和镁都净化合格，导致得到的钨酸铵溶液纯度不高（P:0.0015～0.003g/l，Mg：0.01～0.02g/l），影响最终结晶产品的品质和结晶率（一次产出率）。

钼湿法冶炼工艺主要包括矿石氧化成工业氧化钼、工业氧化钼经预处理后氨溶得到钼酸铵溶液，钼酸铵溶液净化除杂、钼酸铵溶液结晶得到仲钼酸铵及结晶母液、结晶母液循环回收等步骤。其中，氨溶得到钼酸铵溶液含有P、As、Si杂质，因此需要进行净化除杂。经典的除杂工艺，是对粗钼酸铵溶液进行一次加酸酸沉，得到含少量杂质的四钼酸铵，再将四钼酸铵进行氨溶得到可生产仲钼酸铵的钼酸铵溶液。但此种工艺操作复杂，增加硝酸、氨水消耗（硝酸增加1吨/吨钼酸铵，氨水增加0.7吨/吨钼酸铵），钼损失增加0.7%。

因此，进一步研究寻找钨酸铵溶液、钼酸铵溶液的深度净化除杂工艺，是本领域亟待解决的问题。

发明内容

本发明的主要目的是针对上述现有技术中存在的钨酸铵、钼酸铵溶液净化除杂效果不佳、操作复杂的问题，提供一种钨酸铵或钼酸铵溶液深度净化除杂工艺。

钨酸铵或钼酸铵溶液深度净化除杂工艺，包括如下步骤：

步骤（1）：经矿石分解得到的粗钨酸铵溶液或粗钼酸铵溶液，加入氯化镁，得到镁盐沉淀，过滤沉淀，所述氯化镁的加入量应使滤液中镁含量≥0.25g/l；

步骤（2）：滤液进入D850、D750、D851或D751树脂进行吸附，至络黑T或者酸性络蓝K指示不变色，收集得到净化除杂的钨酸铵溶液或钼酸铵溶液。

本发明一方面通过筛选氯化镁的加入量，可以使P、As、Si杂质沉淀完全，又可以控制不过量引入镁杂质，为步骤（2）的净化工艺带来便利；另一方面，发明人通过研究意外发现，将D850、D750、D851或D751树脂应用在钨酸铵、钼酸铵净化除杂技术领域，除去P、As、Si杂质的滤液通过D850、D750、D851或D751树脂吸附，可以很好地吸附溶液中的镁离子，起到除镁效果，从而克服了现有技术中除镁工艺复杂且除镁不彻底的缺陷。

作为优选，前述钨酸铵或钼酸铵溶液深度净化除杂工艺，步骤（1）所述的氯化镁的加入量应使滤液中镁含量在0.25～0.35g/l。

作为优选，前述钨酸铵或钼酸铵溶液深度净化除杂工艺，步骤（2）所述的滤液进入所述D850、D750、D851或D751树脂的流速为5～20cm/min。

作为进一步优选，前述钨酸铵或钼酸铵溶液深度净化除杂工艺，步骤（2）所述的滤液进入所述D850、D750、D851或D751树脂的流速为10～12cm/min。

作为优选，前述钨酸铵或钼酸铵溶液深度净化除杂工艺，步骤（2）所述D850、D750、D851或D751树脂吸附柱的高径比为3：1～7：1。

作为进一步优选，前述钼酸铵或钼酸铵溶液深度净化除杂工艺，步骤（2）所述D850、D750、D851或D751树脂吸附柱的高径比为4：1～5：1。

发明人通过大量实验及筛选，得到了本发明步骤（2）除镁步骤的流速和高径比工艺参数。本发明工艺中，流速过快，会导致流出液中镁含量超标（即使加入指示剂溶液会变红），流速过慢，会导致单位产能过低而影响生产效能。高径比过大，会导致树脂再生时因膨胀而挤压破裂，高径比过小，会导致树脂的穿透容量过小而降低生产能力和增加工艺操作难度。本发明通过筛选得到的最流速和高径比，得到的钨酸铵溶液、钼酸铵溶液纯度高（镁含量为微量），且生产成本得到有效控制。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：