[发明专利]一种消影高透过率OGS用玻璃及其制造方法有效
申请号: | 201310021220.8 | 申请日: | 2013-01-18 |
公开(公告)号: | CN103092416A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | 李俊华;姜翠宁;李亮亮 | 申请(专利权)人: | 深圳市正星光电技术有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041;C03C17/34 |
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地址: | 518000 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 消影高 透过 ogs 玻璃 及其 制造 方法 | ||
1.一种消影高透过率OGS用玻璃,其特征在于:该OGS用玻璃为单片玻璃结构,同时起到保护玻璃和触摸传感器的双重作用,其包括基板(1)、绝缘边框(2)、功能层、ITO导电膜(3),该绝缘边框(2)、功能层、ITO导电膜(3)都通过镀膜技术镀在基板(1)上,功能层是由五氧化二铌膜(4)和二氧化硅膜(5)两种膜组成,功能层都是通过先镀一层五氧化二铌膜(4),后镀一层二氧化硅膜(5)。
2.根据权利要求1所述的一种消影高透过率OGS用玻璃,其特征在于:所述基板(1)的前表面镀有绝缘边框(2),所述绝缘边框(2)上镀有五氧化二铌膜(4),五氧化二铌膜(4)镀有二氧化硅膜(5),该二氧化硅膜(5)镀有ITO导电膜(5),该基板(1)的后表面镀有五氧化二铌膜(4),五氧化二铌膜(4)镀有二氧化硅膜(5)。
3.根据权利要求1所述的一种消影高透过率OGS用玻璃,其特征在于:所述基板(1)的前表面镀有五氧化二铌膜(4),五氧化二铌膜(4)镀有二氧化硅膜(5),二氧化硅膜(5)镀有绝缘边框(2),该绝缘边框(2)镀有ITO导电膜(3),该基板(1)的后表面镀有五氧化二铌膜(4),五氧化二铌膜(4)镀有二氧化硅膜(5)。
4.根据权利要求1所述的一种消影高透过率OGS用玻璃,其特征在于:所述基板(1)的前表面镀有五氧化二铌膜(4),五氧化二铌膜(4)镀有二氧化硅膜(5),二氧化硅膜(5)镀有ITO导电膜(3),该ITO导电膜(3)镀有绝缘边框(2),该该基板1)的后表面镀有五氧化二铌膜(4),五氧化二铌膜(4)镀有二氧化硅膜(5)。
5.根据权利要求2或3或4所述的一种消影高透过率OGS用玻璃,其特征在于:所述基板(1)的前表面镀有的功能层为消影功能层,后表面镀有的功能层为增透减反功能层。
6.一种消影高透过率OGS用玻璃制造方法,其特征在于:该方法工艺分为三种工艺制作流程,
第一种工艺制作流程,绝缘边框(2)镀在基板(1)前表面的前表面的功能层和ITO膜层之前,为第一道工序;则前表面的镀膜制程全部采用低温镀膜;
第二种工艺制作流程,绝缘边框(2)镀在基板(1)前表面的功能层和ITO膜(3)之间,则功能层采用高温方式或者低温方式生产均可,ITO膜层(3)需要采用低温镀膜;
第三种工艺制作流程,绝缘边框(2)镀在基板(1)前表面前表面的功能层和ITO膜层之后,则镀膜制程完全可采取高温镀膜来完成。
7.根据权利要求6所述的消影高透过率OGS用玻璃制造方法,其特征在于,所述第一种工艺的具体流程如下:
a、玻璃基板清洗;
b、制作绝缘边框(2)绝缘边框图案,绝缘边框(2)边框在基板(1)前表面;
c、带有绝缘边框(2)的基板(1)进行镀膜前清洗;
d、将清洗干净的基板1装在基片架上送入镀膜线的真空腔体内;先对基板(1)的后表面进行镀膜加工,依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜;或依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜,再镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜;
e、玻璃的后表面镀完膜后,对玻璃的前表面进行镀膜,依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜;或依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜,再镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜,最后再镀一层ITO导电膜(3);
f、在镀膜机中将玻璃取出,进行检验测试,合格入库。此种方案ITO采用低温镀膜。
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