[发明专利]一种消影高透过率OGS用玻璃及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201310021220.8 申请日: 2013-01-18
公开(公告)号: CN103092416A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 李俊华;姜翠宁;李亮亮 申请(专利权)人: 深圳市正星光电技术有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041;C03C17/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518000 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 消影高 透过 ogs 玻璃 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种消影高透过率OGS用玻璃,其特征在于:该OGS用玻璃为单片玻璃结构,同时起到保护玻璃和触摸传感器的双重作用,其包括基板(1)、绝缘边框(2)、功能层、ITO导电膜(3),该绝缘边框(2)、功能层、ITO导电膜(3)都通过镀膜技术镀在基板(1)上,功能层是由五氧化二铌膜(4)和二氧化硅膜(5)两种膜组成,功能层都是通过先镀一层五氧化二铌膜(4),后镀一层二氧化硅膜(5)。

2.根据权利要求1所述的一种消影高透过率OGS用玻璃,其特征在于:所述基板(1)的前表面镀有绝缘边框(2),所述绝缘边框(2)上镀有五氧化二铌膜(4),五氧化二铌膜(4)镀有二氧化硅膜(5),该二氧化硅膜(5)镀有ITO导电膜(5),该基板(1)的后表面镀有五氧化二铌膜(4),五氧化二铌膜(4)镀有二氧化硅膜(5)。

3.根据权利要求1所述的一种消影高透过率OGS用玻璃,其特征在于:所述基板(1)的前表面镀有五氧化二铌膜(4),五氧化二铌膜(4)镀有二氧化硅膜(5),二氧化硅膜(5)镀有绝缘边框(2),该绝缘边框(2)镀有ITO导电膜(3),该基板(1)的后表面镀有五氧化二铌膜(4),五氧化二铌膜(4)镀有二氧化硅膜(5)。

4.根据权利要求1所述的一种消影高透过率OGS用玻璃,其特征在于:所述基板(1)的前表面镀有五氧化二铌膜(4),五氧化二铌膜(4)镀有二氧化硅膜(5),二氧化硅膜(5)镀有ITO导电膜(3),该ITO导电膜(3)镀有绝缘边框(2),该该基板1)的后表面镀有五氧化二铌膜(4),五氧化二铌膜(4)镀有二氧化硅膜(5)。

5.根据权利要求2或3或4所述的一种消影高透过率OGS用玻璃,其特征在于:所述基板(1)的前表面镀有的功能层为消影功能层,后表面镀有的功能层为增透减反功能层。

6.一种消影高透过率OGS用玻璃制造方法,其特征在于:该方法工艺分为三种工艺制作流程,

第一种工艺制作流程,绝缘边框(2)镀在基板(1)前表面的前表面的功能层和ITO膜层之前,为第一道工序;则前表面的镀膜制程全部采用低温镀膜;

第二种工艺制作流程,绝缘边框(2)镀在基板(1)前表面的功能层和ITO膜(3)之间,则功能层采用高温方式或者低温方式生产均可,ITO膜层(3)需要采用低温镀膜;

第三种工艺制作流程,绝缘边框(2)镀在基板(1)前表面前表面的功能层和ITO膜层之后,则镀膜制程完全可采取高温镀膜来完成。

7.根据权利要求6所述的消影高透过率OGS用玻璃制造方法,其特征在于,所述第一种工艺的具体流程如下:

a、玻璃基板清洗;

b、制作绝缘边框(2)绝缘边框图案,绝缘边框(2)边框在基板(1)前表面;

c、带有绝缘边框(2)的基板(1)进行镀膜前清洗;

d、将清洗干净的基板1装在基片架上送入镀膜线的真空腔体内;先对基板(1)的后表面进行镀膜加工,依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜;或依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜,再镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜;

e、玻璃的后表面镀完膜后,对玻璃的前表面进行镀膜,依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜;或依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜,再镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜,最后再镀一层ITO导电膜(3);

f、在镀膜机中将玻璃取出,进行检验测试,合格入库。此种方案ITO采用低温镀膜。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市正星光电技术有限公司,未经深圳市正星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310021220.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top