[发明专利]玻璃基板水基清洗液及使用该清洗液清洗玻璃基板的方法

权利要求书

1. 一种玻璃基板水基清洗液，其特征在于，包括以下组分（重量百分比）：无机碱性物质1~5%、阴离子表面活性剂5~15%、非离子表面活性剂5~10%、消泡剂0.1~1%，其余为水。

2. 如权利要求1所述的玻璃基板水基清洗液，其特征在于，所述无机碱性物质为氢氧化钾或氢氧化钠。

3. 如权利要求1所述的玻璃基板水基清洗液，其特征在于，所述阴离子表面活性剂为乙二胺二邻苯基乙酸钠。

4. 如权利要求1所述的玻璃基板水基清洗液，其特征在于，所述非离子表面活性剂为异构十三醇聚氧乙烯醚，分子式为C₁₃H₂₇O(C₂H₄O)_nH，其中n为5~8。

5. 如权利要求4所述的玻璃基板水基清洗液，其特征在于，所述异构十三醇聚氧乙烯醚的分子式为C₁₃H₂₇O(C₂H₄O)₅H或C₁₃H₂₇O(C₂H₄O)₆H。

6. 如权利要求1所述的玻璃基板水基清洗液，其特征在于，所述消泡剂为高碳醇，分子式中Ｃ原子数为7~9。

7. 如权利要求6所述的玻璃基板水基清洗液，其特征在于，所述消泡剂为正辛醇。

8. 如权利要求1所述的玻璃基板水基清洗液，其特征在于，所述水为去离子水，在25℃时，电阻率不高于18ＭΩ。

9. 一种使用权利要求1~8中任一项所述的玻璃基板水基清洗液清洗玻璃基板的方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）将所述清洗液用去离子水稀释20~100倍，温度调节至40~50℃；

（2）将玻璃基板放入所述清洗液中浸渍30~50分钟，取出静置；

（3）将玻璃面板放入25℃的去离子水中浸渍3~5分钟后取出；

（4）重复进行步骤（2）和（3）二至三次；

（5）风刀干燥。

10. 一种使用权利要求1~8中任一项所述的玻璃基板水基清洗液清洗玻璃基板的方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）将所述清洗液用去离子水稀释20~100倍，温度调节至40~50℃；

（2）将玻璃基板放入所述清洗液中，利用超声波清洗，2~5分钟后取出；

（3）将玻璃面板放入25℃的去离子水中浸渍3~5分钟后取出；

（4）风刀干燥。