[发明专利]一种大尺度单裂隙介质中二维渗流的监测方法有效
申请号: | 201310021754.0 | 申请日: | 2013-01-21 |
公开(公告)号: | CN103940716A | 公开(公告)日: | 2014-07-23 |
发明(设计)人: | 苏锐;满轲;王驹 | 申请(专利权)人: | 核工业北京地质研究院 |
主分类号: | G01N15/08 | 分类号: | G01N15/08 |
代理公司: | 核工业专利中心 11007 | 代理人: | 包海燕 |
地址: | 100029 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 尺度 裂隙 介质 二维 渗流 监测 方法 | ||
1.一种大尺度单裂隙介质中二维渗流的监测方法,其特征在于:包括以下步骤:
步骤1
将大尺度裂隙介质沿着破裂面剖开,表面分别进行抛光处理形成水平破裂面(3),得到形状、尺寸相同的两个立方体样品:上部样品(1)和下部样品(2),上部样品(1)和下部样品(2)四角对准,竖直方向上下叠置;
步骤2
在所述上部样品(1)中部开设若干个竖直方向贯通上部样品(1)的钻孔,所述钻孔孔径相同,呈阵列式排列:阵列中心的钻孔为中心钻孔(5),其余的钻孔为辐射钻孔(4);
步骤3
在每个辐射钻孔(4)的上端口,设置应力传感器;
步骤4
沿所述下部样品(2)四周,设置一圈流量采集器(6),每个流量采集器(6)均接有一个流速测试装置(7);
步骤5
水流从上部样品(1)的中心钻孔(5)注入,水流涌入辐射钻孔(4),形成多个渗流路径,并最终从上部样品(1)、下部样品(2)之间的水平破裂面(3)流出;每个辐射钻孔(4)上端口的应力传感器获得其对应的渗流路径的水压力值;从水平破裂面(3)流出的水流流入下部样品(2)四周的流量采集器(6),并通过与之相连的流速测试装置(7)测得流出的水流流速,与某个辐射钻孔(4)临近的流速测试装置(7)测得的水流流速代表这个辐射钻孔(4)相对应的渗流路径的水流流速;
结合渗流过程中不同渗流路径的水压力值和水流流速,获得不同渗流路径长度、不同水压力情况下的渗透系数。
2.根据权利要求1所述的一种大尺度单裂隙介质中二维渗流的监测方法,其特征在于:步骤1中,所述上部样品(1)与下部样品(2)最大尺度为米级尺度。
3.根据权利要求1或2所述的一种大尺度单裂隙介质中二维渗流的监测方法,其特征在于:步骤2中,上部样品(1)设有1个中心钻孔(5)和34个辐射钻孔(4),35个钻孔呈5行、7列分布。
4.根据权利要求3所述的一种大尺度单裂隙介质中二维渗流的监测方法,其特征在于:步骤2中,35个钻孔列距均为a,行距均为b;沿样品长度方向的列距a为样品长度的1/10到1/5,沿样品宽度方向的行距b为样品宽度的1/10到1/8。
5.根据权利要求4所述的一种大尺度单裂隙介质中二维渗流的监测方法,其特征在于:步骤2中,上部样品(1)和下部样品(2)的长度均为1100mm,宽度均为900mm,35个阵列排布的钻孔列距a=110mm,行距b=110mm。
6.根据权利要求1或2所述的一种大尺度单裂隙介质中二维渗流的监测方法,其特征在于:上部样品(1)与下部样品(2)二者表面粗糙度均小于等于1.6;1个中心钻孔(5)和34个辐射钻孔(4)内壁的表面粗糙度均小于等于3.2。
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