[发明专利]真空成膜装置

权利要求书

1.一种真空成膜装置，其向配置在真空室内作为成膜对象的基板交替提供两种以上的原料气体，通过化学反应形成规定的薄膜，其特征在于：

具有在真空室内保持基板的台架，向该基板交替供给气体的气体供给装置，以及排出真空室内的气体的排气装置；

以在所述台架保持的所述基板的基板成膜面侧为上，所述气体供给装置具有至少一个喷嘴，所述喷嘴配置在台架的一侧并从基板的一侧向另一侧沿该基板上面喷射所述气体中的任意一种；

所述排气装置具有开在真空室的下壁位于所述台架的另一侧的排气口，设置在该真空室的下方并与排气口连通的排气室，以及与排气室相连并将该排气室内抽真空的真空泵。

2.根据权利要求1所述的真空成膜装置，其特征在于：

所述喷嘴由竖直设立在所述台架的下面上的基部以及从该基部连接向台架的一侧弯曲的喷嘴部构成，所述喷嘴部具有的长度大于等于从该喷嘴部看基板部分的最大长度，在台架侧的端部上沿该长度方向相隔规定间隔排列多个喷射口。

3.根据权利要求1或2所述的真空成膜装置，其特征在于：

所述排气口具有的长度从该喷嘴部看大于等于在基板部分上的最大长度。

4.根据权利要求1~3中任意一项所述的真空成膜装置，其特征在于：

还具有在所述真空室内上下配置的一对上隔壁和下隔壁，以及可对所述上隔壁和所述下隔壁相对移动进行靠近、分离的驱动装置，在上隔壁及下隔壁中的至少一个的周边部设置隔离出成膜空间的周侧壁，使之朝彼此接近的方向相对移动，在包含喷嘴在内的台架周围形成容积小于真空室且与真空室隔绝的成膜空间。