[发明专利]液体喷出头及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201310024376.1 申请日: 2013-01-23
公开(公告)号: CN103213398A 公开(公告)日: 2013-07-24
发明(设计)人: 久保田雅彦;土井健;樱井将贵;中川喜幸;齐藤亚纪子;岸川慎治;柬理亮二;寺崎敦则;冈野明彦;平本笃司 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: B41J2/16 分类号: B41J2/16;B41J2/135
代理公司: 北京魏启学律师事务所 11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 液体 喷出 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种液体喷出头的制造方法,所述液体喷出头包括:基板,所述基板在其第一表面包括多个喷出能量产生元件,所述喷出能量产生元件被构造为产生喷出液体用的能量;以及孔板,所述孔板被布置于所述基板的第一表面侧,以形成所述液体被喷出所经过的喷出口,并且限定与所述喷出口连通的液体流路,

所述基板包括:凹部形状的共用供给口,所述共用供给口形成在所述基板的位于所述第一表面所在侧的相反侧的第二表面;以及多个独立供给口,所述独立供给口从所述共用供给口的底面贯穿到所述第一表面并且与所述液体流路连通,

所述喷出口布置于所述喷出能量产生元件上方,

邻近各个所述喷出能量产生元件地布置将所述液体供给到该喷出能量产生元件的两个独立供给口,该喷出能量产生元件布置于所述两个独立供给口之间,

所述方法包括下述步骤:

1)在所述基板的所述第二表面形成凹部以形成所述共用供给口,

2)形成蚀刻掩模,所述蚀刻掩模规定所述独立供给口的在所述共用供给口的所述底面的开口位置,以及

3)在采用所述蚀刻掩模作为掩模的状态下使用等离子体进行离子蚀刻,由此形成所述独立供给口,

其中,所述蚀刻掩模具有在所述蚀刻掩模中形成的开口图案,使得从所述喷出能量产生元件到与该喷出能量产生元件邻近的两个独立供给口的在所述第一表面侧的开口的各自的距离彼此相等。

2.根据权利要求1所述的液体喷出头的制造方法,其中,在沿着经过所述喷出能量产生元件的中心和与该喷出能量产生元件邻近的两个独立供给口的各自的中心、并且与所述基板的表面方向垂直的平面截取的剖面中,从所述喷出能量产生元件向所述两个独立供给口中的一个独立供给口延伸的一条液体流路以及从该喷出能量产生元件向所述两个独立供给口中的另一个独立供给口延伸的另一条液体流路关于该喷出能量产生元件对称。

3.根据权利要求1所述的液体喷出头的制造方法,其中,当Δx表示所述独立供给口的在所述共用供给口的底面侧的开口相对于所述独立供给口的在所述基板的所述第一表面侧的开口的偏移量时,由下述公式(1)表示Δx:

Δx=H×Tan(Y)…(1)

其中,H:{(所述基板的厚度)-(所述共用供给口的深度:h)},

Y:当通过所述离子蚀刻形成所述独立供给口时离子束由于等离子体鞘的变形而弯曲的角度,

并且

在从所述凹部的中央部到所述凹部的端部的区域中基于所述公式(1)来调整所述多个独立供给口的节距。

4.根据权利要求3所述的液体喷出头的制造方法,其中,当通过所述离子蚀刻形成所述独立供给口时,所述离子束由于所述等离子体鞘的变形而弯曲的所述角度Y满足下述公式(2):

Y≤k{2.0×10-14×(X+a)4-2.0×10-10×(X+a)3+1.0×10-6×(X+a)2-1.8×10-3×(X+a)+3.3×10-3×h-4.5×10-3}     …(2)

其中,k:系数,0<k<2.5,

a:从所述共用供给口的所述底面的边缘到所述共用供给口的开口缘在平行于基板表面的方向上的距离,以及

X:从所述共用供给口的所述底面的边缘到所述独立供给口的距离。

5.一种液体喷出头,其包括:

基板,所述基板在其第一表面包括多个喷出能量产生元件,所述喷出能量产生元件被构造为产生喷出液体用的能量;以及

孔板,所述孔板被布置于所述基板的第一表面侧,以形成所述液体被喷出所经过的喷出口,并且限定与所述喷出口连通的液体流路,

其中,所述基板包括:凹部形状的共用供给口,所述共用供给口形成在所述基板的位于所述第一表面所在侧的相反侧的第二表面;以及多个独立供给口,所述独立供给口从所述共用供给口的底面贯穿到所述第一表面并且与所述液体流路连通,

所述喷出口布置于所述喷出能量产生元件上方,

邻近各个所述喷出能量产生元件地布置将所述液体供给到该喷出能量产生元件的两个独立供给口,该喷出能量产生元件布置于所述两个独立供给口之间,并且

从所述喷出能量产生元件到与该喷出能量产生元件邻近的两个独立供给口的在所述第一表面侧的开口的各自的距离彼此相等。

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