[发明专利]壳体及其制作方法

权利要求书

1.一种壳体，其包括一基体及依次形成于基体表面的打底层、过渡层、及颜色层，其特征在于：该打底层为一金属层，该过渡层为一金属碳氮化物的混镀层，该颜色层为一钛铬铝的混镀层，所述钛铬铝的混镀层中该钛的质量百分比为10-15％，铬的质量百分比为20-35％，铬的质量百分比为50-70％，其中该打底层中的金属为钛、铬、或铁，该过渡层中的金属为钛、铝、铬、或铁，所述金属碳氮化物的混镀层为碳氮化钛和碳氮化铝的混镀层、碳氮化钛和碳氮化铬的混镀层、或碳氮化钛和碳氮化铁的混镀层，所述金属碳氮化物的混镀层中该碳氮化钛的质量百分比为60-80％，该碳氮化铝、碳氮化铬、或碳氮化铁的质量百分比为20-40％。

2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述基体的材质为铝或不锈钢。

3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该打底层的厚度为0.5-0.8um。

4.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该过渡层的厚度为1-4um。

5.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述颜色层的厚度为4-6um，且该颜色层呈白色。

6.一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：

提供一基体；

采用真空镀膜法在该基体的表面依次镀覆打底层、过渡层、及颜色层，该打底层为一金属层，该过渡层为一金属碳氮化物的混镀层，该颜色层为一钛铬铝的混镀层，所述钛铬铝的混镀层中该钛的质量百分比为10-15％，铬的质量百分比为20-35％，铬的质量百分比为50-70％，其中该打底层中的金属为钛、铬、或铁，该过渡层中的金属为钛、铝、铬、或铁，所述金属碳氮化物的混镀层为碳氮化钛和碳氮化铝的混镀层、碳氮化钛和碳氮化铬的混镀层、或碳氮化钛和碳氮化铁的混镀层，所述金属碳氮化物的混镀层中该碳氮化钛的质量百分比为60-80％，该碳氮化铝、碳氮化铬、或碳氮化铁的质量百分比为20-40％。

7.如权利要求6所述的壳体的制作方法，其特征在于：采用一真空镀膜机对该基体进行镀覆处理，该真空镀膜机包括一镀膜室及设置于该镀膜室中的一治具、一钛靶、一铬靶、一铁靶、及一铝靶。

8.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于：形成所述打底层的方法为：开启钛靶、铬靶、或铁靶，调节该镀膜室内的占空比为50-55％，对该基体施加偏压为300-350V，以氩气为工作气体，氩气的流量为100-150sccm，镀膜时间为8-15min。

9.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于：形成所述过渡层的方法为：开启钛靶和铬靶、钛靶和铁靶、或钛靶和铝靶，调节该镀膜室内的占空比为45-50％，对该基体施加的偏压为200-250V，以氩气为工作气体，氩气的流量为100-150sccm，以氮气和乙炔为反应气体，氮气的流量为20-40sccm，乙炔的流量为15-30sccm，镀膜时间为25-45min。

10.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于：形成所述颜色层的方法为：开启钛靶、铬靶、及铝靶，调节该镀膜室内的占空比为40-50％，对该基体施加的偏压为250-300V，以氩气为工作气体，氩气的流量为150-200sccm，镀膜时间为50-80min。