[发明专利]气动生物转盘污水处理设备有效

专利信息
申请号: 201310025370.6 申请日: 2013-01-22
公开(公告)号: CN103183408A 公开(公告)日: 2013-07-03
发明(设计)人: 刘金泉;文一波;王凯;姜安平;才建成;马连勋;王亚东;娄高彬 申请(专利权)人: 北京桑德环境工程有限公司
主分类号: C02F3/08 分类号: C02F3/08;C02F3/34
代理公司: 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 代理人: 郑立明;赵镇勇
地址: 100081 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 气动 生物 转盘 污水处理 设备
【说明书】:

技术领域

发明涉及污水处理设备领域,特别是涉及一种适用于北方寒冷地区冬季运行的微氧气动生物转盘污水处理设备。

背景技术

生物转盘是一种较为成熟的污水处理工艺,80年代在我国即得到广泛应用,在生活污水及印染、化工、纺织等各类工业废水处理领域进行了大量的研究与应用实践。但由于生物转盘本身具有盘片成本较高、不适宜处理大规模污水等特点,90年代后其应用逐渐减少。近年来,随着我国乡镇及农村等小规模污水处理工程的不断增多,生物转盘工艺以其设备简单、处理效果稳定、动力消耗省、操作管理简单等优势,逐渐重新获得业内人士的青睐。

生物转盘形式千变万化,但其原理基本都是依靠附着生长于盘片上的微生物的氧化与分解作用,使水体中的各类污染物得到去除。正常条件下,生物转盘运行效果较为稳定、可靠,通过对运行参数的调整与优化,可实现BOD5、COD、NH4+-N甚至TN的达标排放。但在冬季寒冷条件下,生物转盘的处理效果将会有明显下降,尤其是北方地区,冬季气温在零下十几度时,生物转盘盘片转出水面时,在与空气接触的过程中迅速结冰,即使再次进入水中后也很难融化,很快将在盘片表面形成厚厚的冰层,导致设备整体瘫痪,无法继续运行。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种气动生物转盘污水处理设备,能使生物转盘不受低温寒冷条件影响保持正常稳定运行,从而解决生物转盘设备不适用于低温寒冷地区的问题。

解决上述技术问题的技术方案如下:

本发明实施例提供一种气动生物转盘污水处理设备,包括:

氧化槽、转盘盘片、转轴、气体扩散组件和密封罩;其中,

所述转盘盘片经所述转轴设置在所述氧化槽内,能沿所述转轴在所述氧化槽内转动;

所述气体扩散组件设置在所述转盘盘片下方的所述氧化槽内,气体扩散组件的出气口对应于所述转盘盘片;

所述氧化槽上端开口上设置罩住该开口的所述密封罩。

本发明的污水处理设备通过设在氧化槽底部的气体扩散组件,可向氧化槽内输送空气,一方面通过空体驱动转轴上转盘盘片的转动,并向水体中充氧,减少盘片与冷空气的接触,防止盘片结冰;另一方面通过在氧化槽上端开口上设置密封罩,阻隔外部冷空气进入氧化槽,也可避免氧化槽内所处理污水结冰。通过气体扩散组件和密封罩两者共同作用,结合对设备与管道进行适当保温,保证了转盘在寒冷环境下正常稳定运行。该污水处理设备结构简单,在寒冷环境中使用时不用将污水处理设备设置在专用的设备间内,即可正常稳定运行,成本低。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域的普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他附图。

图1为本发明实施例提供的气动生物转盘污水处理设备的示意图;

图2为图1的A-A向示意图;

图中各标号为:1-进水管;2-氧化槽;3-进水堰;4-盘片;5-集气罩;6-穿孔管;7-微孔曝气器;8-出水堰;9-出水管;10-转轴;11-密封罩。

具体实施方式

下面对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明的保护范围。

下面对本发明实施例作进一步地详细描述。

本发明实施例提供一种气动生物转盘污水处理设备,如图1、2所示,该设备包括:氧化槽2、转盘盘片4、转轴10、气体扩散组件和密封罩11;

其中,转盘盘片4经转轴10设置在氧化槽2内,能沿转轴10在氧化槽2内转动;

气体扩散组件设置在所述转盘盘片4下方的氧化槽2内,气体扩散组件的出气口对应于所述转盘盘片4;

氧化槽2上端开口上设置罩住该开口的密封罩11。

上述污水处理设备的氧化槽2为槽式结构,槽体上设有进水管1、进水堰3、出水管9和出水堰8;其中,进水管和进水堰设置在所述氧化槽2的一侧;出水管9和出水堰8设置在所述氧化槽2的另一侧。

上述污水处理设备的气体扩散组件包括:穿孔管6和多个微孔曝气器7;

其中,穿孔管6设置在氧化槽2底部,处于转轴10上转盘盘片4的外缘与氧化槽2的槽壁之间;

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