[发明专利]一种光学用聚酯薄膜表面涂覆剂及其制备方法与涂覆工艺有效

专利信息
申请号: 201310025679.5 申请日: 2013-01-23
公开(公告)号: CN103087608A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 张洪文;袁珣;姜彦;丁永红;俞强;刘守忠;刘文虎;蒙钊 申请(专利权)人: 常州大学;江苏裕兴薄膜科技股份有限公司
主分类号: C09D151/08 分类号: C09D151/08;C08G77/385;C08F290/06;C08J7/04;C08L67/02
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地址: 213164 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 光学 聚酯 薄膜 表面 涂覆剂 及其 制备 方法 工艺
【权利要求书】:

1.一种光学用聚酯薄膜表面涂覆剂,其特征在于:所述的表面涂覆剂由丙烯酸聚硅氧烷酯与其他的丙烯酸酯类单体共聚而成,其中,丙烯酸聚硅氧烷酯的结构式为n值为150-2000;其他的丙烯酸酯类单体选自甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸丁酯或丙烯酸甲酯。

2.如权利要求1所述的光学用聚酯薄膜表面涂覆剂,其特征在于:所述的丙烯酸聚硅氧烷酯是通过α,ω-二羟基聚二甲基硅氧烷与丙烯酰氯反应得到的,其结构式为n值为150-2000。

3.如权利要求2所述的光学用聚酯薄膜表面涂覆剂,其特征在于,所述的丙烯酸聚硅氧烷酯的制备方法为:向聚合度为150-2000的α,ω-二羟基聚二甲基硅氧烷中加入甲苯溶剂,配制成浓度为0.26g/ml的溶液,按照α,ω-二羟基聚二甲基硅氧烷,丙烯酰氯与三乙胺的物质的量之比为1:2:2,将α,ω-二羟基聚二甲基硅氧烷/甲苯溶液、三乙胺、丙烯酰氯加入到圆底烧瓶中,在氮气气氛、冰盐浴的条件下,磁力搅拌反应1~3h,再在常温条件下,磁力搅拌反应1h,磁力搅拌转速均为450~2650r/min;反应结束后,将铵盐过滤除去,再用旋转蒸发仪将溶液中的甲苯除去;最后将产物放入真空烘箱中室温抽真空干燥,得到丙烯酸聚硅氧烷酯。

4.如权利要求1至3任一项所述的光学用聚酯薄膜表面涂覆剂的制备方法,其特征在于:所述的制备方法为,

(1)将丙烯酸聚硅氧烷酯、其他的丙烯酸酯类单体、乙酸乙酯、2-丁酮以及引发剂偶氮二异丁腈加入到三口烧瓶中,

其中,丙烯酸聚硅氧烷酯与其他的丙烯酸酯类单体的质量比为1:9~9:1,引发剂偶氮二异丁腈的添加量为反应体系中,丙烯酸聚硅氧烷酯与其他的丙烯酸酯类单体的总质量的0.1%~1%;

(2)将三口烧瓶抽真空通氮气,将烧瓶中的空气全部排尽;

(3)随后将三口烧瓶置于70~85℃的油浴中,搅拌反应1~6h;

(4)反应结束后将产物倒入干燥的瓶中密封保存,得到含硅丙烯酸酯类共聚物涂覆剂。

5.如权利要求4所述的光学用聚酯薄膜表面涂覆剂的制备方法,其特征在于:步骤(1)中所述的其他的丙烯酸酯类单体选自甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸丁酯或丙烯酸甲酯。

6.如权利要求4所述的光学用聚酯薄膜表面涂覆剂的制备方法,其特征在于:步骤(1)中所述的乙酸乙酯和2-丁酮为混合溶剂,两者的体积比为1:9~9:1,乙酸乙酯和2-丁酮的添加量为,使反应体系的固含量保持在30~80%。

7.如权利要求1至6任一项所述的光学用聚酯薄膜表面涂覆剂的涂覆工艺,其特征在于:所述的涂覆工艺为,称取涂覆剂置于干燥的小瓶中,量取乙酸乙酯倒入瓶中,每升乙酸乙酯中含有涂覆剂10~50g,待涂覆剂完全溶解后,用匀胶机将其均匀地涂覆于聚酯薄膜表面,之后将涂覆好的聚酯薄膜置于真空烘箱中干燥后取出,得到光学用增透聚酯薄膜。

8.如权利要求7所述的光学用聚酯薄膜表面涂覆剂的应用,其特征在于:所述的聚酯薄膜为双向拉伸PET薄膜,PET薄膜在涂覆前,被剪裁成薄片,依次用洗洁精、蒸馏水、丙酮洗涤,随后将PET薄膜薄片放入真空烘箱中,70℃干燥12小时后,取出密封保存。

9.如权利要求7所述的光学用聚酯薄膜表面涂覆剂的应用,其特征在于:所述的匀胶机涂覆工艺为,使用北京杰雅利电子科技有限公司生产的,型号为YJ-250A的匀胶机,涂覆时间为30S,分为两段,第一时间段10s,转速为1000r/min;第二时间段20s,转速1200r/min。

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