[发明专利]一种碱性抛光液及抛光方法

权利要求书

1.一种碱性抛光液，其特征在于，包含：研磨颗粒，唑类化合物，络合剂，C₁～C₄季胺碱，调节硅片表面平整度的表面活性剂及聚羧酸烷基铵盐；其中，所述的C1～C4季铵碱选自四甲基氢氧化铵(TMAH)，四丁基氢氧化铵(TBAH)，丁基三甲基氢氧化铵和三丁基甲基氢氧化铵中的一种或多种；所述的调节硅片表面平整度的表面活性剂为聚乙烯吡咯烷酮(PVP)和/或壬基酚聚氧乙烯醚；所述的聚羧酸烷基铵盐选自聚丙烯酸烷基铵盐，聚马来酸烷基铵盐，丙烯酸和马来酸共聚物烷基铵盐中的一种或多种。

2.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述研磨颗粒为气相SiO₂和溶胶SiO₂中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述的研磨颗粒浓度为质量百分比含量为3～15wt％。

4.根据权利要求3所述的抛光液，其特征在于，所述的研磨颗粒浓度为质量百分比含量为3～10wt％。

5.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述的唑类化合物选自苯骈三氮唑(BTA)，甲基苯骈三氮唑(TTA)及2,2'-[[(甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]亚氨基]双乙醇中的一种或多种。

6.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述的唑类化合物的浓度为质量百分比0.005％～0.1wt％。

7.根据权利要求6所述的抛光液，其特征在于，所述的唑类化合物的浓度为质量百分比0.005％～0.05wt％。

8.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述的络合剂为氨基酸、柠檬酸、丙二酸、有机膦酸中的一种或多种。

9.根据权利要求8所述的抛光液，其特征在于，所述的有机膦酸为羟基亚乙基二膦酸(HEDP),2-磷酸丁烷-1，2，4-三羟酸(JH-906)中的一种或多种。

10.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述的络合剂的浓度为质量百分比0.05％～1wt％。

11.根据权利要求10所述的抛光液，其特征在于，所述的络合剂的浓度为质量百分比0.05～0.5wt％。

12.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述的C₁～C₄季铵碱的质量百分比含量为0.05～1wt％。

13.根据权利要求12所述的抛光液，其特征在于，所述的C₁～C₄季铵碱的质量百分比含量为0.05～0.5wt％。

14.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述的调节硅片表面平整度的表面活性剂质量百分比含量为0.01～1wt％。

15.根据权利要求14所述的抛光液，其特征在于，所述的调节硅片表面平整度的表面活性剂质量百分比含量为0.01～0.5wt％。

16.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述的聚羧酸烷基铵盐中烷基链长为C₃-C₁₈。

17.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述的聚羧酸烷基铵盐质量百分比0.05％～1wt％。

18.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述的聚羧酸烷基铵盐质量百分比0.05％～0.5wt％。

19.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述抛光液还包含氧化剂，所述氧化剂为过氧化氢。

20.根据权利要求19所述的抛光液，其特征在于，所述过氧化氢的质量百分比0.1～1wt％。

21.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述的抛光液pH值为9-12。

22.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述的抛光液还包含pH值调节剂，其中，所述pH值调节剂为碱或酸。

23.根据权利要求22所述的抛光液，其特征在于，所述的碱为KOH，所述的酸为HNO₃。

24.一种如权利要求1-23任一项所述的抛光液在抛光阻挡层中的应用。