[发明专利]识别气态分子污染源的方法在审
| 申请号： | 201310028005.0 | 申请日： | 2013-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN103713096A | 公开（公告）日： | 2014-04-09 |
| 发明（设计）人： | 庄子寿;黄正吉;周政隆;杨棋铭;林进祥 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N33/00 | 分类号： | G01N33/00 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;孙征 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 识别 气态 分子 污染源 方法 | ||
1.一种识别车间中的气态分子污染(AMC)泄露源的方法，所述方法包括：
在所述车间中分布传感器；
进行所述车间中的正向气流的计算流体动力学(CFD)仿真；
设定所述车间中的气流的正向CFD仿真的反演模型；
建立所述传感器的空间响应概率分布矩阵的数据库；以及
利用AMC测量数据和所述传感器的所述空间响应概率分布矩阵的数据库识别AMC泄露源。
2.根据权利要求1所述的方法，还包括将所述传感器连接至AMC控制器。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述气流的正向CFD仿真包括在所述车间中从风机过滤单元(FFU)的出口至FFU的入口的气流流线。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，进行正向气流CFD仿真包括优化所述车间中的传感器布局。
5.根据权利要求4所述的方法，其中，确定所述传感器布局包括调整所述车间中的传感器的数量。
6.根据权利要求4所述的方法，其中，确定传感器布局包括调整所述车间中的传感器的位置。
7.根据权利要求1所述的方法，其中，设定所述气流的正向CFD仿真的反演模型包括在所述车间中从FFU的入口至FFU的出口的气流流线。
8.根据权利要求1所述的方法，其中，建立所述空间响应概率分布矩阵的数据库包括利用传感器位置处的单位AMC值设定所述传感器的空间响应概率矩阵。
9.一种识别车间中的气态分子污染(AMC)源的方法，所述方法包括：
在所述车间中分布AMC传感器；
将所述AMC传感器连接至计算流体动力学(CFD)系统；
进行所述车间中的正向气流CFD仿真；
执行所述车间中的逆向气流CFD仿真；
设定关于所述AMC传感器的空间响应概率分布的数据库；以及
利用所述AMC传感器监测所述车间。
10.一种识别车间中的气态分子污染(AMC)泄露源的装置，所述装置包括：
AMC控制器；以及
传感器，被配置为与所述AMC控制器连接。
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