[发明专利]基于旋转反射面和散射体的匀场消相干装置

权利要求书

1.一种基于旋转反射面和散射体的匀场消相干装置，其特征在于：包括消相干机构（1），所述消相干机构（1）包括电机（101）、反射镜（102）、连接件（103）及透明的散射体（104），所述反射镜（102）和散射体（104）分别固定于所述连接件（103）的两侧，所述电机（101）的输出轴与反射镜（102）的背面固定连接；所述消相干机构（1）的出射光路上依次布置有汇聚透镜（2）和具有匀场功能的光导管（3）。

2.根据权利要求1所述的基于旋转反射面和散射体的匀场消相干装置，其特征在于：所述电机（101）的输出轴轴线与连接件（103）的轴线相交。

3.根据权利要求1或2所述的基于旋转反射面和散射体的匀场消相干装置，其特征在于：所述反射镜（102）为平面反射镜、凹面反射镜或者凸面反射镜；所述连接件（103）为连接环或透明的连接实体。

4.根据权利要求3所述的基于旋转反射面和散射体的匀场消相干装置，其特征在于：所述散射体（104）的散射面上或散射体内部散布纳米散射颗粒或具有纳米微结构。

5.根据权利要求4所述的基于旋转反射面和散射体的匀场消相干装置，其特征在于：所述电机（101）为旋转电机、振动电机或者直线电机。

6.根据权利要求1所述的基于旋转反射面和散射体的匀场消相干装置，其特征在于：所述连接件（103）是侧投影为楔形的连接件，所述反射镜（102）倾斜固定于所述连接件（103）的一侧而形成斜面；所述电机（101）的输出轴轴线与散射体（104）垂直。

7.根据权利要求6所述的基于旋转反射面和散射体的匀场消相干装置，其特征在于：所述散射体（104）的散射面上或散射体内部散布纳米散射颗粒或具有纳米微结构。

8.一种基于旋转反射面和散射体的匀场消相干装置，其特征在于：包括消相干机构（1），所述消相干机构包括电机和透明的楔形圆盘（123），所述楔形圆盘（123）的斜面上镀有反射膜而形成反射面（122），楔形圆盘（123）上与斜面相对的侧面形成散射面（124），所述电机的输出轴与楔形圆盘（123）的斜面相固定、且电机的轴线与散射面（124）垂直；所述消相干机构（1）的出射光路上依次布置有汇聚透镜（2）和具有匀场功能的光导管（3）。

9.根据权利要求8所述的基于旋转反射面和散射体的匀场消相干装置，其特征在于：所述楔形圆盘（122）的散射面（124）上或楔形圆盘内部散布纳米散射颗粒或具有纳米微结构。

10.根据权利要求8或9所述的基于旋转反射面和散射体的匀场消相干装置，其特征在于：所述电机为旋转电机、振动电机或者直线电机。