[发明专利]一种避免激光芯片因反向光损伤的大功率激光器

权利要求书

1.一种避免激光芯片因反向光损伤的大功率光纤激光器，该光纤激光器包括有依次连接的泵浦源、光纤合束器、增益光纤和输出端，所述的泵浦源通过第一输出光纤连接至光纤合束器中，该光纤合束器通过一根第二输出光纤连接所述的增益光纤，该增益光纤连接输出端，在所述的泵浦源内设置有半导体激光芯片，大功率激光器的输出端出射激光光束至加工件上，其特征在于，在所述的第一输出光纤和第二输出光纤中至少一种输出光纤上制作有用以消除加工件反射的反向光的光纤光栅。

2.根据权利要求1所述的一种避免激光芯片因反向光损伤的大功率激光器，其特征在于，所述的光纤光栅或者设置在第一输出光纤上、或者设置在第二输出光纤上、或者在第一输出光纤和第二输出光纤上均设有光纤光栅。

3.根据权利要求1所述的一种避免激光芯片因反向光损伤的大功率激光器，其特征在于，所述大功率激光器的泵浦源数量为1～10000，所述第一输出光纤的数量与泵浦源的数量相同且对应。

4.根据权利要求1所述的一种避免激光芯片因反向光损伤的大功率激光器，其特征在于，所述的光纤光栅对加工件反射的反向光满足衍射条件而产生反射以实现滤波。

5.根据权利要求1或4所述的一种避免激光芯片因反向光损伤的大功率激光器，其特征在于，所述的光纤光栅或为光纤布拉格光栅、或为长周期光纤光栅。

6.根据权利要求5所述的一种避免激光芯片因反向光损伤的大功率激光器，其特征在于，所述光纤光栅的参数与入射光波长之间的对应关系为： 

其中，为需反射光纤的波长，为光栅周期，为纤芯有效折射率。

7.根据权利要求1所述的一种避免激光芯片因反向光损伤的大功率激光器，其特征在于，所述的光纤合束器上还连接有种子源激光器。

8.根据权利要求1所述的一种避免激光芯片因反向光损伤的大功率激光器，其特征在于，所述大功率激光器的输出端与加工件之间设有扫描聚焦系统准直系统和扫描聚焦系统。

9.根据权利要求1所述的一种避免激光芯片因反向光损伤的大功率激光器，其特征在于，所述大功率激光器的输出功率在10W～100000W。