[发明专利]用来减低镜片加热现象的光掩膜

权利要求书

1.一种减轻透镜加热用的光掩膜，其特征在于，包含：

一基板，其包括有效的图案区域；

位于所述有效的图案区域中的一目标图案，用来将所述目标图案建立到一晶圆上；以及

一重分配图案，位于所述有效的图案区域中，用来将能量重新分配至一镜片而不会被转印至所述晶圆上，也不会在将所述目标图案建立至所述晶圆上时修改所述目标图案。

2.根据权利要求1所述的减轻透镜加热用的光掩膜，其特征在于，所述目标图案的尺寸和所述重分配图案的尺寸是不同的。

3.根据权利要求1所述的减轻透镜加热用的光掩膜，其特征在于，所述基板包括石英和吸收材料的其中至少一种。

4.根据权利要求1所述的减轻透镜加热用的光掩膜，其特征在于，所述目标图案是用来构建一电子装置。

5.根据权利要求1所述的减轻透镜加热用的光掩膜，其特征在于，所述重分配图案位在所述目标图案之中。

6.根据权利要求1所述的减轻透镜加热用的光掩膜，其特征在于，所述重分配图案是一种用于化学机械抛光垫的一种次分辨率填充图案。

7.根据权利要求1所述的减轻透镜加热用的光掩膜，其特征在于，更包括：

多个所述目标图案，位于所述有效的图案区域内；以及

多个重分配图案，位于所述有效的图案区域内，其中所述重分配图案的其中一个位于所述目标图案之间。

8.根据权利要求1所述的减轻透镜加热用的光掩膜，其特征在于，所述重分配图案的尺寸超越一光刻系统的分辨率的极限。

9.根据权利要求1所述的减轻透镜加热用的光掩膜，其特征在于，所述重分配图案对于所述目标图案具有至少一个垂直的方向、一个水平的方向和一个倾斜的方向。

10.根据权利要求1所述的减轻透镜加热用的光掩膜，其特征在于，所述重分配图案具有一个周期性的线条/间隔特征，其特征间距介于50纳米至150纳米之间。

11.根据权利要求1所述的减轻透镜加热用的光掩膜，其特征在于，所述重分配图案使得所述镜片具有减低的像差响应。

12.根据权利要求1所述的减轻透镜加热用的光掩膜，其特征在于，所述重分配图案使得所述镜片具有一个平衡过的热负荷。

13.根据权利要求1所述的减轻透镜加热用的光掩膜，其特征在于，所述重分配图案使得所述目标图案保持成像保真性。

14.一种用来重新分配透镜受热光掩膜的方法，其特征在于，包含：

提供一目标图案和一镜片；

依照所述目标图案和所述镜片产生一个镜片受热敏感性分布图；

决定所述目标图案是否在所述镜片上形成了一个平衡过的热负荷；

如果所述目标图案没有在所述镜片上形成所述平衡过的热负荷，引入一与所述目标图案相邻的重分配图案；

决定所述重分配图案与所述目标图案一起是否在所述镜片上形成所述平衡过的热负荷；及

当所述重分配图案与所述目标图案一起在所述镜片上形成所述平衡过的热负荷时，输出所述重分配图案与所述目标图案而形成一光掩膜，其得以在所述镜片上形成所述平衡过的热负荷。