[发明专利]加热装置和用于发生化学反应的设备

权利要求书

1.一种加热装置，其特征在于，该装置包括：

光源(1)，其用于产生包括红外线的光束，以加热多个待加热的区域(8)，和

光线引导部件(2)，用于使所述光源(1)产生的光束变成多个光斑，分别照射到所述的多个待加热的区域(8)，所述光线引导部件(2)包括微机电系统或者二维光栅(3)，

其中所述光源(1)为两个，一个光源能够产生第一波长的光，另一个光源能够产生第二波长的光，在所述两个光源(1)和光线引导部件(2)之间还设有二向色镜(7)，所述二向色镜(7)使所述第一波长的光和所述第二波长的光耦合成一束。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述光源(1)能够产生包括红外线的激光。

3.根据权利要求1所述的装置，其中所述二维光栅(3)用于使所述光源(1)产生的光束发生透射形成多个光斑，所述二维光栅(3)的面内角可调。

4.根据权利要求3所述的装置，其中所述二维光栅(3)为上下设置的多个二维光栅，用于改变透射光斑的数量。

5.根据权利要求3所述的装置，其中在所述光线引导部件(2)和区域(8)之间还设有渐变滤色片(4)，该渐变滤色片(4)用于控制照射到待加热的区域(8)上的光的强度。

6.根据权利要求1所述的装置，其中所述微机电系统包括数字微镜器件(5)或光栅光阀(6)及其控制器，所述控制器用于控制数字微镜器件(5)或光栅光阀(6)，从而调整照射到待加热的区域(8)上的光的方向和强度。

7.根据权利要求6所述的装置，其中所述数字微镜器件(5)和光栅光阀(6)上覆有红外线反射膜。

8.一种用于发生化学反应的设备，其特征在于该设备包括：

如权利要求1-7中任一项所述的加热装置，和

设置在所述加热装置一侧的基体(9)，所述基体(9)上设有多个容纳反应样品的区域(8)。

9.根据权利要求8所述的设备，其中所述区域(8)中设有多个孔，所述孔的侧壁为阶梯形结构，用于防止光发生全反射。