[发明专利]一种提高极紫外光谱纯度及热稳定性的新型多层膜无效
| 申请号： | 201310037265.4 | 申请日： | 2013-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN103091744A | 公开（公告）日： | 2013-05-08 |
| 发明（设计）人： | 金春水;祝文秀;匡尚奇 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;G03F7/20 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人： | 南小平 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提高 紫外 光谱 纯度 热稳定性 新型 多层 | ||
【权利要求书】：
1.一种提高极紫外光谱纯度及热稳定性的新型多层膜，该多层膜为在基底（1）上依次镀制Si层（2）和Mo层（3）交替的周期性多层膜，其特征是，还包括热稳定层（4）；所述热稳定层（4）制作在Si层（2）和Mo层（3）交替的周期性多层膜上。
2.根据权利要求1所述的一种提高极紫外光谱纯度及热稳定性的新型多层膜，其特征在于，所述基底（1）的表面粗糙度小于0.2nm。
3.根据权利要求1所述的一种提高极紫外光谱纯度及热稳定性的新型多层膜，其特征在于，所述Si层（2）和Mo层（3）交替的周期性多层膜周期数为40~60，周期厚度为6.9~7.1nm。
4.根据权利要求1所述的一种提高极紫外光谱纯度及热稳定性的新型多层膜，其特征在于，所述热稳定层（4）的厚度为9-11nm。
5.根据权利要求1所述的一种提高极紫外光谱纯度及热稳定性的新型多层膜，其特征在于，所述热稳定层（4）的材料为Si3N4。
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