[发明专利]一种高浓度Nd掺杂YAG激光晶体生长方法无效
申请号: | 201310040188.8 | 申请日: | 2013-02-01 |
公开(公告)号: | CN103074685A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 王彪;权纪亮;朱允中;马德才;杨名鸣 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
主分类号: | C30B29/28 | 分类号: | C30B29/28;C30B15/00 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 林伟斌 |
地址: | 510275 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 浓度 nd 掺杂 yag 激光 晶体生长 方法 | ||
技术领域
本发明涉及掺钕钇铝石榴石工艺领域(简称Nd:YAG),特别是一种高浓度Nd掺杂YAG激光晶体生长方法。
背景技术
Nd:YAG激光晶体具有光学均匀性好、高增益、机械性能好等优点,是目前最好、最常用的固体激光材料之一。由于固体大功率脉冲激光焊接技术和设备的应用普及,加快了固体激光器朝着高功率、高效率、高光速质量的方向发展,对高质量YAG系列激光晶体的需求迅速增长,目前大功率激光器所用Nd:YAG激光晶体材料是通过中频感应提拉法生长的,其掺钕浓度最高不超过1.1at%,导致其通过使用大尺寸Nd:YAG激光晶体棒或板条状晶体串接获取高功率输出,而大尺寸Nd:YAG激光晶体的使用会加大冷却的难度,又由于其自身的量子效益小缺陷,长时间工作时很容易产生热透镜效应,会使激光输出效率降低。近些年来研究者们开展了高掺钕Nd:YAG激光材料和替代品的研究,如温梯法生长高浓度、大尺寸Nd:YAG激光晶体,研制掺杂浓度高的Nd:YAG透明激光陶瓷等,但由于缺陷较多或还在摸索阶段,应用都受到很大限制。
发明内容
基于此,针对上述现有技术中存在的问题,本发明的目的在于提供一种掺钕浓度高、浓度梯度小、散射颗粒少、质量较高的高浓度Nd掺杂YAG激光晶体生长方法。
为达到上述目的,本发明技术方案为:
一种高浓度Nd掺杂YAG激光晶体生长方法,该方法基于中频感应激光晶体炉,包括步骤:
S1.将纯度大于或等于99.999%的氧化钇Y2O3、氧化铝Al2O3、氧化钕Nd2O3在600~800℃下灼烧4~8小时,再按预设的掺钕浓度进行计算、称量配置成底料;
S2.将步骤S1中配好的底料装入塑料瓶中,固定在混料机上充分混合24~48小时;
S3.将步骤S2中混合均匀的粉料放入乳胶模具中,密封后再通过200~300MPa等静压成型;
S4.将籽晶放入所需采用的铱坩埚籽晶杆中;
S5.将成型的原料放入直径60~120mm的铱坩埚中,调整好线圈、保温系统、籽晶、铱坩埚的同心度后抽真空,当炉体真空度达到3.5~4.5Pa时冲入氩气;
S6. 启动中频感应激光晶体炉使炉膛内的加热系统升温,待步骤S5 中所述铱坩埚中的原料全部熔化后,熔体液流线清晰稳定时开始缓慢下籽晶,从下籽晶到籽晶接触液面处经历时间约1~2小时,调节熔体温度使籽晶直径缩小1~2mm时恒温1~2小时;
S7. 提拉籽晶,开始晶体生长,其生长方向为<111>,晶体生长包括4个阶段:
放肩阶段,放肩时晶升速率为0.6~0.7mm/h,晶转速率为16~18转/分钟,放肩角度控制在40o~50o,在晶体放肩生长后期要逐步减慢晶升速率至0.5~0.55mm/h,降低晶转速率至14~15转/分钟,升降温速率要平缓,当放肩处直径与晶体目标直径相差2~4mm时,开始恒温;
等经生长阶段,晶体恒温生长15~48小时后进入等径生长阶段,晶升速率随着晶体等径生长的长度增加而减慢至0.4~0.45mm/h, 晶转速率缓慢减小至12~13转/分钟,晶体生长温控速率跨度不可过大,使晶体直径偏差控制在1~2mm之内;
收尾阶段,晶体生长达到预定长度后开始升温收尾,随着晶体直径的变小慢慢提高晶升速率至0.6~0.65mm/h, 晶转速率也要逐步减慢至9~11转/分钟,晶体直径缩至4~6mm左右时,再进行等径生长8~10小时,最后降温使晶体直径变大扩成一个“盖”型,以防止晶体开裂和保护坩埚;
降温阶段,晶体生长结束后以10~80℃/h的速率降低铱坩埚内生长区的温度,直到室温。
本方案所提供的高浓度Nd掺杂YAG激光晶体生长方法可获得直径Ф25~45mm、掺钕浓度1.17~1.41 at%、浓度梯度小、散射颗粒少、质量较高的Nd:YAG激光晶体,工艺稳定,晶体成炉率较高。本产品制成激光器使用时具有输出激光能量高、使用效率高的特点,适合用于高功率连续激光器或脉冲激光器;也可满足一些需要输出高功率的小型激光器应用需求,具有很好的应用前景。
进一步地,在一个实施方案中,所述中频感应激光晶体炉的观察孔外端置有YAG抛光镜片。用以降低晶体径向散热量,减小径向热应力,进一步提升晶体品质。
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