[发明专利]一种电子束表面微造型的方法

权利要求书

1.一种电子束表面微造型的方法，该方法是利用小功率、高品质电子束，通过电磁场控制进行扫描，按一定的轨迹作用于金属表面，产生几微米到几百微米的微小突起，其特征在于：电子束的扫描轨迹(2)由多条向中心O汇集的线段(1)组成，每两条线段(1)不相交，相邻两线段(1)的夹角相等，夹角大小的范围是5～120°，各线段(1)长度相等，电子束是从线段(1)距离中心O最近的端点开始向外沿线段(1)进行扫描到另一端点。

2.根据权利要求1所述的电子束表面微造型的方法，其特征在于：所述电子束的功率为10～1000W，束流直径为0.3～0.7mm，电子束的扫描速度为0.1～5m/s。

3.根据权利要求1所述的电子束表面微造型的方法，其特征在于：将多个扫描轨迹(2)排成常规阵列和交错阵列，常规阵列是矩阵阵列的排列方式，相邻两行扫描轨迹(2)之间的行间距相等，相邻两列扫描轨迹(2)之间的列间距相等；

交错阵列是在常规阵列基础上，插入扫描轨迹(2)，插入的每一个扫描轨迹(2)位于常规阵列相邻两行和相邻两列扫描轨迹(2)中间。