[发明专利]内含表面包覆玻璃层的硅晶片的封装器件及其封装方法无效

专利信息
申请号: 201310041211.5 申请日: 2013-02-01
公开(公告)号: CN103972181A 公开(公告)日: 2014-08-06
发明(设计)人: 董才加;翟泽;黄顺风 申请(专利权)人: 意法半导体制造(深圳)有限公司
主分类号: H01L23/29 分类号: H01L23/29;H01L23/373;H01L21/56
代理公司: 深圳市隆天联鼎知识产权代理有限公司 44232 代理人: 刘耿
地址: 518000 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 内含 表面 玻璃 晶片 封装 器件 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种封装器件,包括表面包覆玻璃层的硅晶片(1)、焊锡盘(3)以及导电框架(2);

所述导电框架(2)包括若干引脚(21)和散热片(22),所述硅晶片(1)中的各个焊盘分别键合对应的引脚(21),所述硅晶片(1)、导电框架(2)以及引脚(21)通过树脂(4)封装,所述引脚(21)的外引脚部分从所述树脂(4)封装的侧面暴露;

其特征在于:所述硅晶片(1)通过焊锡盘(3)固定在所述导电框架(2)的上表面,且所述导电框架(2)的散热片(22)被所述树脂(4)密封封装。

2.如权利要求1所述的封装器件,其特征在于:所述树脂(4)为高导热树脂,其导热率为1.9至3。

3.如权利要求2所述的封装器件,其特征在于:所述散热片(22)的结构为勺子状,所述勺子状结构中的勺口(221)的一端连接至少一所述引脚(21),另一端连接所述勺子状结构中的勺柄(222),所述硅晶片(1)固定在所述勺子状结构的勺口(221)中部。

4.如权利要求2所述的封装器件,其特征在于:所述树脂(4)的导热率为1.9至2.1。

5.如权利要求4所述的封装器件,其特征在于:所述树脂(4)的导热率为2。

6.如权利要求2所述的封装器件,其特征在于:所述硅晶片(1)中的各个焊盘分别通过铝线(5)耦接对应引脚(21)上的引脚接线端(211)。

7.一种硅晶片的封装方法,其特征在于:包括以下步骤:

(a)形成表面包覆玻璃层的硅晶片;

(b)将硅晶片通过焊锡膏直接粘合在导电框架上;

(c)将硅晶片中的各个焊盘与导电框架中对应的引脚耦合;

(d)采用高导热树脂模封成型;

(e)存放在高温环境中进行老化;以及

(f)将产品的引脚部分电镀。

8.如权利要求7所述的硅晶片的封装方法,其特征在于:所述步骤(d)中,所述导电框架的散热片被所述树脂密封封装,该树脂的导热率为1.9至3。

9.如权利要求8所述的硅晶片的封装方法,其特征在于:所述步骤(a)中包括以下步骤:

(a1)将整个晶源贴在蓝膜上;

(a2)烘烤,增加蓝膜上晶源的粘性;

(a3)切割晶源,切割深度为晶源连接部厚度的一半;以及

(a4)背面平压使晶源开裂成单个的晶片;

(a5)测试单个晶片,去掉坏的晶片。

10.如权利要求9所述的硅晶片的封装方法,其特征在于:所述步骤(b)中包括以下步骤:

(b1)在常温下将硅晶片通过所述焊锡膏贴合在所述导电框架的散热片上;以及

(b2)存放在温度为摄氏175度的恒温环境下,内有氮气作为保护气体,存放8小时进行老化。

11.如权利要求10所述的硅晶片的封装方法,其特征在于:所述步骤(b)之后步骤(c)之前还包括以下步骤:

(b3)通过清洗,将焊锡膏里蒸发出来的助焊剂清掉。

12.如权利要求11所述的硅晶片的封装方法,其特征在于:所述步骤(e)之后步骤(f)之前还包括以下步骤:

(e1)去除毛刺。

13.如权利要求12所述的硅晶片的封装方法,其特征在于:所述步骤(f)之后还包括以下步骤:

(g)将整条模封之后的晶片切成一粒粒的可用成品;以及

(h)测试,去掉坏掉的产品。

14.如权利要求13所述的硅晶片的封装方法,其特征在于:所述步骤(d)中,所述树脂(4)的导热率为1.9至2.1。

15.如权利要求14所述的硅晶片的封装方法,其特征在于:所述步骤(d)中,所述树脂(4)的导热率为2。

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