[发明专利]一种亚波长光栅周期的测量器件

权利要求书

1.一种亚波长光栅周期的测量器件，其特征在于：由标准光栅和金属介质多层膜组成，金属-介质多层膜由多层介质层和多层金属层为相间隔放置；介质层的上层位于标准光栅的下方，金属层的底层位于待测光栅上方，将电场方向与标准光栅方向垂直的线偏振入射光照射到标准光栅上，标准光栅产生多级携带高空间频率的衍射波，并通过金属介质多层膜滤波；滤过透射波与待测光栅差频形成能观测的长周期干涉条纹；最后观察测量干涉条纹并确定待测光栅周期。

2.根据权利要求1所述的亚波长光栅周期的测量器件，其特征在于，标准光栅和待测光栅排布方向一致。

3.根据权利要求1所述的亚波长光栅周期的测量器件，其特征在于，所述的金属介质多层膜结构具有倏逝波传输能力。

4.根据权利要求1所述的亚波长光栅周期的测量器件，其特征在于，在工作波段下，利用金属介质多层膜选择性透过+n和-n级次的标准光栅衍射光，n为标准光栅的激发衍射级次。

5.根据权利要求1所述的亚波长光栅周期的测量器件，其特征在于，每层金属膜的厚度选择在10纳米到100纳米，材料为能够激发表面等离子体的金属金、银、铜或铝中的一种。

6.根据权利要求1所述的亚波长光栅周期的测量器件，其特征在于，待测光栅的测试周期为：

Tdown=Tinterference×Tupn×Tinterference-Tup]]>

其中T_down为待测光栅周期，T_up为标准光栅周期，T_interference为最终观测干涉条纹周期，n为标准光栅的激发衍射级次。