[发明专利]7,8-二氢-6H-[1,4]噁嗪[3,2-g]喹唑啉类衍生物及其制备方法和用途

权利要求书

1.式I结构的化合物或其药学上可接受的盐：

其中

R₁是苯基或杂芳基，其任选被一个或多个选自下列的基团所取代：卤素、烷基、烯基、炔基、烷氧基、硝基、羟基、环烷基或杂脂环基、氰基、巯基、酰基、硫代酰基、氨基、卤代烷基、卤代烷氧基、酯基、芳基或杂芳基；

R₂是卤素、-NR₃R₄、-OR₅或-SR₆；

R₃和R₄独立地选自氢、烷基、环烷基、芳基或杂芳基，或者R₃和R₄与N原子合起来形成一个杂芳基或杂脂环基；

R₅和R₆独立地选自氢、烷基、环烷基、芳基或杂芳基。

2.根据权利要求1所述的化合物或其药学上可接受的盐，其特征在于R₁是苯基，其任选被一个或多个选自下列的基团所取代：卤素和炔基；优选地，R₁是3-氯-4-氟苯基或3-乙炔基苯基。

3.根据权利要求1所述的化合物或其药学上可接受的盐，其特征在于，

R₂是-NR₃R₄，

R₃和R₄独立地选自氢、烷基、环烷基、芳基或杂芳基，或者R₃和R₄与N原子合起来形成一个含N的杂芳基或杂脂环基；

进一步优选地：

R₂是-NR₃R₄，

R₃和R₄独立地选自烷基，或者R₃和R₄与N原子合起来形成一个含N的杂芳基或杂脂环基；

再进一步优选地：

R₂是-NR₃R₄，

R₃和R₄独立地选自烷基，或者R₃和R₄与N原子合起来形成一个含N的杂芳基、未取代的或烷基取代的杂脂环基；

更优选地，R₂是-NR₃R₄，

R₃和R₄选自低级烷基，或者R₃和R₄与N原子合起来形成被一个或多个低级烷基任选取代的如下基团：哌嗪子基、吗啉子基、哌啶子基、吡咯烷基或咪唑基。