[发明专利]一种发光二极管外延结构有效

专利信息
申请号: 201310043789.4 申请日: 2013-02-04
公开(公告)号: CN103107253A 公开(公告)日: 2013-05-15
发明(设计)人: 贾海强;陈弘;马紫光;江洋;王文新;王禄;李卫 申请(专利权)人: 中国科学院物理研究所
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06
代理公司: 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 代理人: 王艺
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 发光二极管 外延 结构
【权利要求书】:

1.一种发光二极管(LED)外延结构,其特征在于,包括多量子阱有源层,所述多量子阱有源层包括一个或多个基本周期性结构,所述基本周期性结构包括相邻的宽阱和宽垒,所述宽阱包括多个耦合阱,所述多个耦合阱均为窄阱,相邻的耦合阱之间有窄垒以实现电子和空穴的隧穿耦合。

2.如权利要求1所述的LED外延结构,其特征在于,

所述多个耦合阱为2~5个耦合阱。

3.如权利要求2所述的LED外延结构,其特征在于,

当所述多个耦合阱为2个耦合阱时,所述2个耦合阱的阱宽不同,和/或,所述2个耦合阱的合金材料组分不同;

当所述多个耦合阱为3~5个耦合阱时,所述多个耦合阱的阱宽相同或不同,所述多个耦合阱的合金材料组分相同或不同,多个窄垒的垒宽相同或不同,多个窄垒的合金材料组分相同或不同;

所述宽垒具有相同的垒宽和合金材料组分,所述宽阱具有相同的周期性结构。

4.如权利要求1所述的LED外延结构,其特征在于,

所述多量子阱有源层还可包括基本多量子阱结构和/或基本超晶格结构。

5.如权利要求1~4中任意一项所述的LED外延结构,其特征在于,

所述LED外延结构为GaN基LED外延结构,所述GaN基LED外延结构还包括衬底、成核层、不掺杂的氮化物缓冲层、N型电子注入层和P型空穴注入层;所述多量子阱有源层位于所述N型电子注入层和所述P型空穴注入层之间。

6.如权利要求5所述LED的外延结构,其特征在于:

所述宽垒和窄垒的材料为InxGa1-xN,所述多个耦合阱的材料为InyGa1-yN;其中,0≤x≤0.05,0<y<0.25,x<y;

所述宽垒的垒宽为10nm~30nm,所述窄垒的垒宽为1.5nm~8nm,所述耦合阱的阱宽为1nm~4nm。

7.如权利要求5或6中所述的LED外延材料结构,其特征在于,

所述多量子阱结构有源层包括1~20个所述基本周期性结构。

8.如权利要求1~4中任意一项所述的LED外延材料结构,其特征在于:

所述LED外延结构为四元系AlGaInP基LED外延结构,所述四元系AlGaInP基LED外延结构还包括衬底、GaAs缓冲层、分布式布拉格反射层、N型电子注入层、P型空穴注入层和窗口层;所述多量子阱有源层位于所述N型电子注入层和所述P型空穴注入层之间。

9.如权利要求8所述的LED外延材料结构,其特征在于:

所述宽垒的材料为(AlxGa1-x1-yInyP,所述窄垒的材料为(Alx1Ga1-x11-y1Iny1P,所述多个耦合阱的材料为(Alx2Ga1-x21-y2Iny2P,其中0.5≤x≤1,0.4≤y≤0.6,0.5≤x1≤1,0.4≤y1≤0.6,0≤x2≤0.4,0.4≤y2≤0.6;

所述宽垒的垒宽为7nm~30nm,所述窄垒的垒宽为1nm~4nm,所述多个耦合阱的阱宽为3nm~10nm。

10.如权利要求8或9所述的LED外延材料结构,其特征在于,

所述多量子阱结构有源层包括5~40个所述基本周期性结构。

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