[发明专利]等离子体处理装置以及等离子体处理方法

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，具备：

处理室，进行等离子体处理；

气体供给单元，对所述处理室供给工艺气体；

高频电源，供给用于对供给到所述处理室内的工艺气体进行等离子体化的高频电力；以及

光检测器，检测在所述处理室内生成的等离子体的发光，

所述离子体处理装置的特征在于：

所述光检测器具备：

检测部，在规定的曝光时间的期间，检测通过脉冲调制了的高频电力生成的等离子体的发光；以及

控制部，进行控制以使在各所述曝光时间内检测的所述等离子体的发光的量成为恒定。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：所述控制部通过使所述脉冲调制的脉冲和所述曝光时间同步，来进行控制以使在各所述曝光时间内检测的所述等离子体的发光的量成为恒定。

3.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：所述控制部控制所述各曝光时间，以使对在各所述曝光时间内检测的所述等离子体的发光的ON期间进行积算而得到的值成为恒定。

4.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：所述控制部控制所述各曝光时间，以使在各所述曝光时间内检测的等离子体的调制脉冲的数量成为恒定。

5.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：根据所述等离子体的调制脉冲的周期与所述曝光时间的大小关系，切换以使对在各所述曝光时间内检测的所述等离子体的发光的ON期间进行积算而得到的值成为恒定的方式控制所述各曝光时间的控制、和以使在各所述曝光时间内检测的等离子体的调制脉冲的数量成为恒定的方式控制所述各曝光时间的控制。

6.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：所述光检测器的各采样的等离子体发光数据是在各所述曝光时间检测出的等离子体发光数据的规定个数的平均值。

7.一种使用了等离子体处理装置的等离子体处理方法，该等离子体处理装置具备：

处理室，进行等离子体处理；

气体供给单元，对所述处理室供给工艺气体；

高频电源，供给用于对供给到所述处理室内的工艺气体进行等离子体化的高频电力；以及

光检测器，检测在所述处理室内生成的等离子体的发光，

所述等离子体处理方法的特征在于：

所述光检测器在规定的曝光时间的期间检测根据脉冲调制了的高频电力生成的等离子体的发光，进行控制以使在各所述曝光时间内检测的所述等离子体的发光的量成为恒定，

基于由所述光检测器检测出的等离子体发光数据，进行等离子体处理。

8.根据权利要求7所述的等离子体处理方法，其特征在于：所述光检测器通过使所述脉冲调制的脉冲和所述曝光时间同步，来进行控制以使在各所述曝光时间内检测的所述等离子体的发光的量成为恒定。

9.根据权利要求7所述的等离子体处理方法，其特征在于：所述光检测器控制所述各曝光时间，以使对在各所述曝光时间内检测的所述等离子体的发光的ON期间进行积算而得到的值成为恒定。

10.根据权利要求7所述的等离子体处理方法，其特征在于：所述光检测器控制所述各曝光时间，以使在各所述曝光时间内检测的等离子体的调制脉冲的数量成为恒定。

11.根据权利要求7所述的等离子体处理方法，其特征在于：根据所述等离子体的调制脉冲的周期与所述曝光时间的大小关系，切换以使对在各所述曝光时间内检测的所述等离子体的发光的ON期间进行积算而得到的值成为恒定的方式控制所述各曝光时间的控制、和以使在各所述曝光时间内检测的等离子体的调制脉冲的数量成为恒定的方式控制所述各曝光时间的控制。

12.根据权利要求7所述的等离子体处理方法，其特征在于：所述光检测器的各采样的等离子体发光数据是在各所述曝光时间检测出的等离子体发光数据的规定个数的平均值。