[发明专利]暗曝光控制装置有效
申请号: | 201310045702.7 | 申请日: | 2013-02-05 |
公开(公告)号: | CN103248835B | 公开(公告)日: | 2017-10-13 |
发明(设计)人: | 朝仓直人;木村吉孝;小迫幸圣 | 申请(专利权)人: | 宾得理光映像有限公司 |
主分类号: | H04N5/361 | 分类号: | H04N5/361;H04N5/235 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司11314 | 代理人: | 程伟,王锦阳 |
地址: | 日本东京都板*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 控制 装置 | ||
1.一种暗曝光控制装置,所述暗曝光控制装置设置在具有成像装置和控制所述成像装置的曝光的快门的相机中,所述暗曝光控制装置包括:
暗曝光执行处理器,所述暗曝光执行处理器检测当所述快门被关闭时所述成像装置产生的图像信号;
孔径光阑,所述孔径光阑调节入射在所述成像装置上的光的量;以及
孔径光阑驱动处理器,所述孔径光阑驱动处理器调节所述孔径光阑的开放程度,所述孔径光阑驱动处理器降低当所述暗曝光执行处理器被操作时所述孔径光阑的开放程度,使所述孔径光阑的开放程度小于针对主曝光设定的开放程度;
所述暗曝光执行处理器具有暗曝光确定处理器,所述暗曝光确定处理器确定所述成像装置的感光度是否高于预定值,当所述暗曝光确定处理器确定感光度高于预定值时,所述孔径光阑驱动处理器减小所述孔径光阑的开放程度,当所述暗曝光确定处理器确定感光度不高于预定值时,所述孔径光阑驱动处理器保持所述孔径光阑的开放程度。
2.根据权利要求1所述的暗曝光控制装置,其中,当所述暗曝光执行处理器被操作时,所述孔径光阑驱动处理器减少所述孔径光阑的开放空间,使所述孔径光阑的开放空间小于针对主曝光设定的开放空间的一半。
3.根据权利要求1所述的暗曝光控制装置,其中,当所述暗曝光执行处理器被操作时,所述孔径光阑驱动处理器使所述孔径光阑的开放程度最小化。
4.根据权利要求1所述的暗曝光控制装置,还包括第一暗曝光确定处理器,其根据所述成像装置的曝光时间、所述成像装置的感光度和所述成像装置的温度,确定是否操作所述暗曝光执行处理器。
5.根据权利要求4所述的暗曝光控制装置,其中,当所述第一暗曝光确定处理器确定所述成像装置的感光度高于预定值时,所述孔径光阑驱动处理器减少所述孔径光阑的开放程度。
6.根据权利要求1所述的暗曝光控制装置,还包括第二暗曝光确定处理器,其仅根据所述成像装置的曝光时间,确定是否操作所述暗曝光执行处理器。
7.根据权利要求1所述的暗曝光控制装置,还包括第一分离曝光确定处理器,其确定是否应该以分离曝光模式执行主曝光,其中,在分离曝光模式中,通过根据所述成像装置的曝光时间、所述成像装置的感光度和所述成像装置的温度电子划分曝光时间来执行曝光,当所述第一分离曝光确定处理器确定应该以所述分离曝光模式执行主曝光时,所述暗曝光执行处理器通过将曝光时间划分与主曝光相同的数量以所述分离曝光模式执行暗曝光。
8.根据权利要求7所述的暗曝光控制装置,其中,当以所述分离曝光模式执行所述暗曝光时,所述孔径光阑驱动处理器使所述孔径光阑的开放程度最小化。
9.根据权利要求7所述的暗曝光控制装置,进一步包括泄露光检测处理器,其确定当以所述分离曝光模式第一次执行所述暗曝光时光是否泄漏到所述成像装置上,当所述泄露光检测处理器确定光泄漏到所述成像装置上时,所述孔径光阑驱动处理器从以所述分离曝光模式的第二暗曝光开始使所述孔径光阑的开放程度最小化到最小开放程度。
10.根据权利要求1所述的暗曝光控制装置,进一步包括第二分离曝光确定处理器,其确定是否应该以分离曝光模式执行主曝光,其中,在分离曝光模式中,通过仅根据所述成像装置的曝光时间电子划分曝光时间来执行曝光,当所述第二分离曝光确定处理器确定应该以所述分离曝光模式执行主曝光时,所述暗曝光执行处理器通过将曝光时间划分与主曝光相同的数量以所述分离曝光模式执行暗曝光。
11.根据权利要求10所述的暗曝光控制装置,其中,当以所述分离曝光模式执行所述暗曝光时,所述孔径光阑驱动处理器使所述孔径光阑的开放程度最小化。
12.根据权利要求10所述的暗曝光控制装置,进一步包括泄露光检测处理器,其确定当以所述分离曝光模式第一次执行所述暗曝光时,光是否泄漏到所述成像装置上,当所述泄露光检测处理器确定光泄漏到所述成像装置上时,所述孔径光阑驱动处理器在第一分离曝光之后使所述孔径光阑的开放程度最小化。
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