[发明专利]卷对卷式原子层沉积设备及其使用方法

权利要求书

1.一种卷对卷式原子层沉积设备，其特征在于，包括：

用于传动带状的待沉积样品的至少两个卷筒装置；

用于向所述卷筒装置输出动力的动力装置，所述动力装置与所述卷筒装置联接；

反应腔体，所述反应腔体的内部具有多个气道、以及与所述气道的方向相交的用于所述待沉积样品穿过的通道，所述反应腔体上具有与多个所述气道相对应的多个进气口以及出气口。

2.如权利要求1所述的卷对卷式原子层沉积设备，其特征在于，所述反应腔体为多个。

3.如权利要求2所述的卷对卷式原子层沉积设备，其特征在于，多个所述反应腔体以独立分布的方式间隔设置。

4.如权利要求1至3任一项所述的卷对卷式原子层沉积设备，其特征在于，该设备还包括用于加热所述待沉积样品的加热装置。

5.如权利要求1至3任一项所述的卷对卷式原子层沉积设备，其特征在于，该设备还包括用于去除反应生成的副产物的抽气装置、以及用于回收剩余反应物的回收装置。

6.一种卷对卷式原子层沉积设备，其特征在于，该设备包括反应腔体，所述反应腔体的内部设置有用于传动带状的待沉积样品的至少两个卷筒装置、以及与所述卷筒装置联接的用于向所述卷筒装置输出动力的动力装置，所述反应腔体的内部还设置有多个气道、以及与所述气道的方向相交的用于所述待沉积样品穿过的通道，所述反应腔体上具有与多个所述气道相对应的多个进气口以及出气口。

7.如权利要求6所述的卷对卷式原子层沉积设备，其特征在于，该设备还包括用于加热所述待沉积样品的加热装置。

8.如权利要求6所述的卷对卷式原子层沉积设备，其特征在于，该设备还包括用于去除反应生成的副产物的抽气装置、以及用于回收剩余反应物的回收装置。

9.如权利要求6至8任一项所述的卷对卷式原子层沉积设备，其特征在于，该设备还包括设置于提供空气的气道前的用于过滤空气的过滤装置。

10.一种根据上述权利要求1至9任一项所述的卷对卷式原子层沉积设备的原子层沉积方法。

11.如权利要求10所述原子层沉积方法，其特征在于，该方法利用空气中的水分子与反应物反应，在待沉积样品上形成氧化物薄膜。