[发明专利]微结构导电图案成型方法及系统有效
申请号: | 201310048605.3 | 申请日: | 2013-02-06 |
公开(公告)号: | CN103197793A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 顾莹 | 申请(专利权)人: | 南昌欧菲光科技有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041;G03F7/00;B41J2/01 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 邓云鹏 |
地址: | 330000 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 微结构 导电 图案 成型 方法 系统 | ||
技术领域
本发明涉及导电基板技术,特别是涉及一种微结构导电图案成型方法及系统。
背景技术
触摸屏设备由于具有“所触即所得”的优点,加上其坚固耐用、反应速度快、节省空间,使得触摸屏越来越受到大众的喜爱。因为在触摸屏领域,需要在透明的基材上形成微结构导电图案,故微结构导电图案的成型技术在各类电子产品,特别是触摸屏领域里应用广泛。
在传统的微结构导电图案成型方法中,微结构导电图案的成型需要经过光刻、显影、电镀、压印及印刷5个工序,在制作过程中,需要制作由电镀镍组成的镍模来对基材进行压印,镍模在压印两三次之后就会变形并失去精确性,需要时常对其进行更换,从而导致整个制作方法步骤较为繁琐,且材料消耗较大,浪费了人力物力,提高了成本。同时因其步骤较为繁琐,其中任意一工序出问题便会导致产品不良,产品良率较低。
发明内容
基于此,有必要提供一种成本较低且能够提高良率的微结构导电图案成型方法。
一种微结构导电图案成型方法,用于在基板上形成微结构导电图案,包括以下步骤:
在所述基板上涂覆光刻胶,所述光刻胶在所述基板的一表面上形成光胶层;
对所述光胶层进行曝光及显影,以在所述光胶层上形成与所述微结构导电图案相一致的凹槽;
在所述光胶层上印刷导电油墨,所述导电油墨进入所述凹槽中;及
烘干所述导电油墨,并清洗所述基板表面上剩余的所述光胶层,最终在所述基板上形成所述微结构导电图案。
在其中一个实施例中,所述基板为柔性基板。
在其中一个实施例中,制作所述基板的材料为无机硅酸盐、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯及聚对苯二甲酸乙二酯中的一种或多种。
在其中一个实施例中,所述对所述光胶层进行曝光及显影,去除所述基板表面上部分的所述光胶层,以在所述光胶层上形成与所述微结构导电图案相一致的凹槽的步骤具体为:
提供一掩模板,所述掩模板上开设与所述微结构导电图案相一致的窗口;
通过所述掩模板对所述光胶层进行曝光,在所述光胶层上形成被曝光区域;及
通过显影液对所述光胶层进行显影,所述被曝光区域上的光胶层溶于所述显影液中,所述光胶层上形成与所述微结构导电图案相一致的凹槽。
在其中一个实施例中,所述清洗所述基板表面上剩余的所述光胶层的方法具体为:
对所述基板表面上剩余的所述光胶层进行曝光;及
通过清洗液对曝光后的所述光胶层进行溶解,使所述基板表面上剩余的所述光胶层被去除。
在其中一个实施例中,所述导电油墨为金溶液、银溶液、铜溶液、铝溶液、铁溶液及锌溶液中的至少一种。
上述微结构导电图案成型方法,其工艺较为简单,步骤较少,节约了人力物力,并提高了产品的良率。同时,上述微结构导电图案成型方法无需制作和使用镍模,进一步降低了成本。
此外,还有必要提供一种用于实现上述微结构导电图案成型方法的微结构导电图案成型系统。
一种微结构导电图案成型系统,用于在基板上形成微结构导电图案,包括:
流水线工作台;
光刻装置,设置与所述流水线工作台上,所述光刻装置可对所述基板的一表面上的光胶层进行曝光;
显影装置,设置与所述流水线工作台上,所述显影装置可对曝光后的所述光胶层进行显影,去除所述基板表面上部分的所述光胶层,以在所述光胶层上形成与所述微结构导电图案相一致的凹槽;及
油墨印刷装置,设置与所述流水线工作台上,所述油墨印刷装置包括:
喷嘴,所述喷嘴可将导电油墨喷射于所述光胶层上;及
刷子,所述刷子将所述导电油墨在所述光胶层上涂覆均匀,所述导电油墨进入所述凹槽中。
在其中一个实施例中,所述基板为柔性基板。
在其中一个实施例中,还包括:
放卷转动轴,设置于所述流水线工作台的一端,所述柔性基板卷绕于所述放卷转动轴上,并从所述放卷转动轴中放出;及
收卷转动轴,设置于所述流水线工作台的另一端,所述柔性基板从所述放卷转动轴上放出,传送并经过所述光刻装置、所述显影装置及所述油墨印刷装置,最终卷绕于所述收卷转动轴上。
在其中一个实施例中,所述光刻装置包括光源及设置于所述光源一侧的掩模板,所述掩模板上开设与所述微结构导电图案相一致的窗口,所述光源发出的光透过所述掩模板的窗口照射至所述光胶层上,并对部分的所述光胶层进行曝光。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南昌欧菲光科技有限公司,未经南昌欧菲光科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310048605.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。