[发明专利]干涉滤波器、光学模块以及电子设备

权利要求书

1.一种干涉滤波器，其特征在于，

所述干涉滤波器具备隔着间隙而彼此相对的第一光学膜和第二光学膜，

所述第一光学膜及所述第二光学膜中至少一方具有金属膜，

所述金属膜的表面及边缘部被具有导电性的阻隔膜覆盖。

2.根据权利要求1所述的干涉滤波器，其特征在于，

所述阻隔膜的电阻率为8×10⁷Ω·cm以下。

3.根据权利要求1或2所述的干涉滤波器，其特征在于，

所述金属膜的材料是Ag单质和以Ag为主成分的合金中任一种，

所述阻隔膜是以选自由铟类氧化物、锡类氧化物及锌类氧化物组成的组中的一个或多个物质为主成分的膜、或者是以选自所述组中的物质为主成分的膜层积而成的层积膜。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的干涉滤波器，其特征在于，

所述阻隔膜是以氧化铟锡、Al掺杂氧化锌、Ga掺杂氧化锌、Ce掺杂氧化铟、氧化锌以及氧化锡中的任一个为主成分的膜。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的干涉滤波器，其特征在于，

所述阻隔膜接地。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的干涉滤波器，其特征在于，

在所述金属膜的边缘部设有斜面，在所述斜面上形成有所述阻隔膜。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的干涉滤波器，其特征在于，

所述第一光学膜、所述第二光学膜中至少一方包含所述金属膜和用于放置所述金属膜的其他光学膜，

从所述第一光学膜或所述第二光学膜的厚度方向俯视观察时所述金属膜的面积小于所述其他光学膜的面积，并在所述金属膜和所述其他光学膜之间形成有台阶，所述阻隔膜形成为覆盖所述台阶。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的干涉滤波器，其特征在于，

所述第一光学膜设置于第一基板，

所述第二光学膜设置于第二基板，

所述第一基板具有第一电极，

所述第二基板具有第二电极，

通过在第一电极和第二电极之间产生的静电力可变地控制所述第一光学膜和所述第二光学膜之间的间隙。

9.一种光学模块，其特征在于，包括：

权利要求1至8中任一项所述的干涉滤波器；以及

检测部，检测透过了所述干涉滤波器的光的光量。

10.一种电子设备，其特征在于，包括：

权利要求1至8中任一项所述的干涉滤波器；

检测部，检测透过了所述干涉滤波器的光的光量；以及

处理部，根据所述检测部检测到的光的光量来实施分析处理。