[发明专利]一种雪崩光电探测器和提高雪崩光电探测器高频特性的方法无效
申请号: | 201310049958.5 | 申请日: | 2013-02-08 |
公开(公告)号: | CN103077996A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 李彬;韩勤;杨晓红 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
地址: | 100083 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 雪崩 光电 探测器 提高 高频 特性 方法 | ||
1.一种雪崩光电探测器,用于探测目标探测光,包括纵向依次排列的吸收层(8)、第一电荷层(61)和倍增层(5),
所述吸收层(8)用于吸收目标探测光,将目标探测光的光子转化为光生自由载流子对;
所述第一电荷层(6)用于调控器件内部电场分布;
所述倍增层(5)用于使进入其中的自由载流子引发雪崩倍增效应,产生雪崩载流子对;其特征在于:
所述雪崩光电探测器还包括渡越层(9),所述渡越层(9)与所述吸收层(8)分别位于倍增层(5)的两侧,所述雪崩载流子对中的一种类型的载流子经由所述渡越层(8)纵向漂移至所述雪崩光电探测器的一端。
2.如权利要求1所述的雪崩光电探测器,其特征在于,所述渡越层的禁带宽度大于目标探测光的光子能量。
3.如权利要求1所述的雪崩光电探测器,其特征在于,所述雪崩光电探测器还包括第二电荷层(62),其位于所述倍增层(5)的相对于具有所述第一电荷层(61)的一侧的另一侧,并且其掺杂类型与所述第一电荷层(61)相反。
4.如权利要求3所述的雪崩光电探测器,其特征在于,所述第二电荷层(62)紧邻所述倍增层(5)。
5.一种提高雪崩光电探测器高频特性的方法,所述雪崩光电探测器用于探测目标探测光,包括纵向依次排列的吸收层(8)、第一电荷层(61)和倍增层(5),所述吸收层(8)用于吸收目标探测光,将目标探测光的光子转化为光生自由载流子对;所述第一电荷层(6)用于调控器件内部电场分布;所述倍增层(5)用于使进入其中的自由载流子引发雪崩倍增效应,产生雪崩载流子对;其特征在于,所述方法包括:
提供渡越层(9),并使所述渡越层(9)与所述吸收层(8)分别位于倍增层(5)的两侧,当所述倍增层(5)产生雪崩载流子时,使所述雪崩载流子对中的一种类型的载流子经由所述渡越层(8)纵向漂移至所述雪崩光电探测器的一端。
6.如权利要求5所述的提高雪崩光电探测器高频特性的方法,其特征在于,所述渡越层的禁带宽度大于目标探测光的光子能量。
7.如权利要求5所述的提高雪崩光电探测器高频特性的方法,其特征在于,该方法还包括:
在所述倍增层(5)的相对于具有所述第一电荷层(61)的一侧的另一侧提供一第二电荷层(62),并使其掺杂类型与所述第一电荷层(61)相反。
8.如权利要求7所述的提高雪崩光电探测器高频特性的方法,其特征在于,使所述第二电荷层(62)紧邻所述倍增层(5)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所,未经中国科学院半导体研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310049958.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种蜂窝式催化剂磨损强度试验装置
- 下一篇:转鼓机
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的