[发明专利]四环素及其类似物的合成

权利要求书

1.一种下式化合物：

或其盐、同分异构体或互变异构体，

其中R₁是氢；卤素；环状或非环状、经取代或未经取代、有支链或无支链脂肪族基团；环状或非环状、经取代或未经取代、有支链或无支链杂脂肪族基团；酰基；经取代或未经取代芳基；经取代或未经取代杂芳基；-OR_A；-C(＝O)R_A；-CO₂R_A；-CN；-SCN；-SR_A；-SOR_A；-SO₂R_A；-NO₂；-N(R_A)₂；-NHC(O)R_A；或-C(R_A)₃；其中R_A在每次出现时独立地为氢、保护基团、脂肪族基团、杂脂肪族基团、酰基；芳基；杂芳基；烷氧基；芳氧基；烷硫基；芳硫基；氨基、烷基氨基、二烷基氨基、杂芳氧基；或杂芳硫基；

R₂是氢；卤素；环状或非环状、经取代或未经取代、有支链或无支链脂肪族基团；环状或非环状、经取代或未经取代、有支链或无支链杂脂肪族基团；酰基；经取代或未经取代芳基；经取代或未经取代杂芳基；-OR_B；-C(＝O)R_B；-CO₂R_B；-CN；-SCN；-SR_B；-SOR_B；-SO₂R_B；-NO₂；-N(R_B)₂；-NHC(O)R_B；或-C(R_B)₃；其中R_B在每次出现时独立地为氢、保护基团、脂肪族基团、杂脂肪族基团、酰基；芳基；杂芳基；烷氧基；芳氧基；烷硫基；芳硫基；氨基、烷基氨基、二烷基氨基、杂芳氧基；或杂芳硫基；

R₃是氢；卤素；环状或非环状、经取代或未经取代、有支链或无支链脂肪族基团；环状或非环状、经取代或未经取代、有支链或无支链杂脂肪族基团；酰基；经取代或未经取代芳基；经取代或未经取代杂芳基；-OR_C；-C(＝O)R_C；-CO₂R_C；-CN；-SCN；-SR_C；-SOR_C；-SO₂R_C；-NO₂；-N(R_C)₂；-NHC(O)R_C；或-C(R_C)₃；其中R_C在每次出现时独立地为氢、保护基团、脂肪族基团、杂脂肪族基团、酰基；芳基；杂芳基；烷氧基；芳氧基；烷硫基；芳硫基；氨基、烷基氨基、二烷基氨基、杂芳氧基；或杂芳硫基；

R₄是氢；卤素；环状或非环状、经取代或未经取代、有支链或无支链脂肪族基团；环状或非环状、经取代或未经取代、有支链或无支链杂脂肪族基团；酰基；经取代或未经取代芳基；经取代或未经取代杂芳基；-OR_D；-C(＝O)R_D；-CO₂R_D；-CN；-SCN；-SR_D；-SOR_D；-SO₂R_D；-NO₂；-N(R_D)₂；-NHC(O)R_D；或-C(R_D)₃；其中R_D在每次出现时独立地为氢、保护基团、脂肪族基团、杂脂肪族基团、酰基；芳基；杂芳基；烷氧基；芳氧基；烷硫基；芳硫基；氨基、烷基氨基、二烷基氨基、杂芳氧基；或杂芳硫基；

R₅是氢；卤素；环状或非环状、经取代或未经取代、有支链或无支链脂肪族基团；环状或非环状、经取代或未经取代、有支链或无支链杂脂肪族基团；酰基；经取代或未经取代芳基；经取代或未经取代杂芳基；-OR_E；-CN；-SCN；-SR_E；或-N(R_E)₂；其中R_E在每次出现时独立地为氢、保护基团、脂肪族基团、杂脂肪族基团、酰基；芳基；杂芳基；烷氧基；芳氧基；烷硫基；芳硫基；氨基、烷基氨基、二烷基氨基、杂芳氧基；或杂芳硫基；

R₇在每次出现时独立地为氢；卤素；环状或非环状、经取代或未经取代、有支链或无支链脂肪族基团；环状或非环状、经取代或未经取代、有支链或无支链杂脂肪族基团；酰基；经取代或未经取代芳基；经取代或未经取代杂芳基；-OR_G；-C(＝O)R_G；-CO₂R_G；-CN；-SCN；-SR_G；-SOR_G；-SO₂R_G；-NO₂；-N(R_G)₂；-NHC(O)R_G；或-C(R_G)₃；其中R_G在每次出现时独立地为氢、保护基团、脂肪族基团、杂脂肪族基团、酰基；芳基；杂芳基；烷氧基；芳氧基；烷硫基；芳硫基；氨基、烷基氨基、二烷基氨基、杂芳氧基；或杂芳硫基；

各P独立地选自以下组成的群组：氢、低碳烷基基团、酰基基团或保护基团；且

n是介于0至3之间且包含0和3的整数。