[发明专利]照明光学装置、曝光装置及元件制造方法有效

专利信息
申请号: 201310052891.0 申请日: 2008-10-10
公开(公告)号: CN103149807A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 广田弘之 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 寿宁
地址: 日本东京千代*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 照明 光学 装置 曝光 元件 制造 方法
【说明书】:

专利申请是申请号为200880015567.9的名称为“照明光学装置、曝光装置及元件制造方法”的发明专利申请的分案申请,原申请的申请日是2008年10月10日。

技术领域

本发明是关于用以照射被照射物体的照明光学装置、具备该照明光学装置的曝光装置、以及使用该曝光装置的元件制造方法。

背景技术

以往,制造半导体集成电路等微等微元件时所使用的曝光装置,有例如特开2002-353105号公报中所揭示的曝光装置。此曝光装置,具备用以照射形成有既定图案的标线片等掩模的照明光学装置,以及用以将该照明光学装置照射掩模而形成的图案像投影至涂有感光性材料的晶圆、玻璃板等基板的投影光学装置。

照明光学装置,具备用以调整在掩模的被照射面上的光瞳亮度分布的空间光调变构件。此空间光调变构件具备排列成矩阵状的多个反射光学元件,在各该反射光学元件的反射面分别涂有反射膜。此外,各反射光学元件,藉由各自的反射面将来自光源的曝光用光分别反射向掩模。

又,各反射光学元件,能变更反射面相对曝光用光分别对各反射面的入射方向的倾斜角。此外,藉由就各反射光学元件变更反射面相对曝光用光光轴的倾斜角,即能适当调整在掩模被照射面上的光瞳亮度分布。

发明内容

近来,为谋求上述图案像对基板的投影效率及精度的提升,而强烈希望达成曝光用光的高输出化。然而,由于在构成空间光调变构件的各反射光学元件的反射面涂布(coating)耐久性较高的反射膜是非常困难的,因此多是分别涂布耐久性较低的反射膜。因此,空间光调变构件的寿命,会因从光源输出的曝光用光的强度越强而使得反射膜的恶化越快、或因绕至各反射光学元件驱动部分的光量变多而导致该驱动部分的破损而变短。如上所述,此种曝光用光的强度较强的场合与曝光用光的强度较弱的场合相较,会有空间光调变构件的更换较快情形。

然而,上述构成的曝光装置,有时必须在暂时停止曝光装置的驱动的状态下进行空间光调变构件的更换。承上所述,由于光源输出的曝光用光的强度越强、更换空间光调变构件的时间即越快,因此在曝光用光的光路内配置空间光调变构件的曝光装置,会因光源的高输出而使得微元件的制造效率反而有降低下之虞。

本发明有鉴于上述情形,其目的是提供一种即使在从光源输出的光的光路内配置空间光调变构件的场合,亦能对光源的高输出化而提升元件制造效率作出贡献的照明光学装置、曝光装置及元件制造方法。

本发明的照明光学装置,将从光源输出、沿既定光路行进的光导向被照射物体,其特征在于:具备多个空间光调变构件,由具有可动反射面的多个反射光学元件排列成矩阵状所构成;各该空间光调变构件中的至少1个配置在该光路内。

根据上述构成,从光源输出的光藉由排列成矩阵状的多个空间光调变构件而被导向被照射物体。因此,与使用1个空间光调变构件将光源输出的光导向被照射物体的公知情形相较,可藉由空间光调变构件使用数的增加份,延迟使曝光装置的驱动暂时停止以更换空间光调变构件的时序。因此,即使是在光源输出的光的光路内配置空间光调变构件的场合,亦能对光源高输出化带来的元件制造效率的提升作出贡献。

根据本发明,光源高输出化带来的元件制造效率的提升作出贡献。

附图说明

图1显示第1实施形态的曝光装置的概略构成图。

图2显示第1实施形态的可动多反射镜的概略立体图。

图3显示构成可动多反射镜的反射镜要件的排列态样的概略立体图。

图4显示驱动反射镜要件的驱动部构成的概略立体图。

图5显示第2实施形态的照明光学装置的一部分的概略构成图。

图6显示第3实施形态的照明光学装置的一部分的概略构成图。

图7显示第4实施形态的照明光学装置的一部分的概略构成图。

图8显示第5实施形态的照明光学装置的一部分的概略构成图。

图9元件的制造例的流程图。

图10与半导体元件的情形时的基板处理相关的详细流程图。

具体实施方式

<第1实施形态>

以下,针对将本发明予以具体化的第1实施形态,根据图1~图4加以说明。

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