[发明专利]用于Nd2Fe14B磁体的防腐涂层有效
| 申请号： | 201310055250.0 | 申请日： | 2013-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN103290413B | 公开（公告）日： | 2018-06-19 |
| 发明（设计）人： | T.耶格尔;J.许茨;J.盖斯勒;A.维尔德 | 申请（专利权）人： | 罗伯特·博世有限公司 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;C23C30/00;H01F1/057;H01F41/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李少丹;刘春元 |
| 地址： | 德国斯*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 防腐涂层 基础材料 第一层 施加 | ||
1.一种磁体，包括由Nd2Fe14B制成的基础材料（1）以及施加在基础材料（1）上的涂层，该涂层由至少一个硬度至少为400HV的第一层（2）和至少一个第二层（3）构成，
其特征在于，
所述施加在基础材料（1）上的涂层包括设置在该第一层(2)和基础材料（1）之间的至少一个第二层（3），其中第二层（3）具有至少一个三层结构（3a，3b，3c），
其中第一层（2）选自陶瓷层，并且所述施加在基础材料（1）上的涂层完全包围所述基础材料（1）。
2.根据权利要求1所述的磁体，其特征在于，施加在基础材料（1）上的涂层的第一层（2）具有至少500HV的硬度。
3.根据权利要求2所述的磁体，其特征在于，施加在基础材料（1）上的涂层的第一层（2）具有至少800HV的硬度。
4.根据权利要求3所述的磁体，其特征在于，施加在基础材料（1）上的涂层的第一层（2）具有至少1000HV的硬度。
5.根据权利要求1至4之一所述的磁体，其特征在于，第一层（2）的平均层厚为0.5至50μm。
6.根据权利要求5所述的磁体，其特征在于，第一层（2）的平均层厚为2至40μm。
7.根据权利要求1所述的磁体，其特征在于，施加在基础材料（1）上的涂层的第二层（3）是具有层序列的三层结构（3a，3b，3c）：Ni层（3a）-Cu层（3b）-Ni层（3c）。
8.根据权利要求1所述的磁体，其特征在于，三层结构（3a，3b，3c）的每个层的平均层厚为1至40μm。
9.根据权利要求8所述的磁体，其特征在于，三层结构（3a，3b，3c）的每个层的平均层厚为2至30μm。
10.根据权利要求1至4之一所述的磁体，其特征在于，陶瓷层是由氧化铝、氧化硅或者二氧化钛构成的陶瓷层或者有机改性的陶瓷层。
11.一种用于制造包括由Nd2Fe14B制成的基础材料（1）的磁体的方法，包括在基础材料（1）上施加由至少一个硬度至少为400HV的第一层（2）和至少一个第二层（3）构成的涂层的步骤，其特征在于，
施加在基础材料（1）上的涂层包括设置在第一层(2)和基础材料（1）之间的至少一个第二层（3），其中第二层（3）具有至少一个三层结构（3a，3b,3c），
其中第一层（2）选自陶瓷层，并且所述施加在基础材料（1）上的涂层完全包围所述基础材料（1）。
12.根据权利要求11所述的用于制造磁体的方法，其特征在于，第一层（2）具有至少500HV的硬度。
13.根据权利要求12所述的用于制造磁体的方法，其特征在于，第一层（2）具有至少800HV的硬度。
14.根据权利要求13所述的用于制造磁体的方法，其特征在于，第一层（2）具有至少1000HV的硬度。
15.根据权利要求11至14之一所述的用于制造磁体的方法，其特征在于，第一层（2）的平均层厚为0.5至50μm。
16.根据权利要求15所述的用于制造磁体的方法，其特征在于，第一层（2）的平均层厚为2至40μm。
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