[发明专利]含有噻唑类化合物的电镀铜溶液

权利要求书

1.一种含硫含氮的杂环化合物的电镀铜溶液，其特征在于1L该电镀铜溶液由下述质量 配比的原料组成：

上述抑制剂为嵌段聚醚或聚乙烯吡咯烷酮；所述嵌段聚醚是数均分子量为1000的普朗 尼克PE3100、数均分子量为1750的普朗尼克PE4300、数均分子量为2000的普朗尼克PE6100、 数均分子量为2450的普朗尼克PE6200、数均分子量为2900的普朗尼克PE6400、数均分子量 为8000的普朗尼克PE6800、数均分子量为2125的普朗尼克RPE1740、数均分子量为3080的 普朗尼克RPE2035中的任意一种；

上述的加速剂是聚二硫二丙烷磺酸钠或3-巯基-1-丙烷磺酸钠；

上述含硫含氮的杂环化合物是2-氨基苯并噻唑盐酸盐、2-氨基-5-苯并噻唑羧酸、4-羟 基-2-氨基苯并噻唑、2-巯基噁唑、2-甲巯基苯并噁唑、2-巯基咪唑、2-巯基-6-甲基苯并噁 唑、2-巯基噻二唑中的任意一种。

2.根据权利要求1所述的含硫含氮的杂环化合物的电镀铜溶液，其特征在于1L该电镀 铜溶液由下述质量配比的原料组成：

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3.根据权利要求1所述的含硫含氮的杂环化合物的电镀铜溶液，其特征在于1L该电镀 铜溶液由下述质量配比的原料组成：

4.根据权利要求1所述的含硫含氮的杂环化合物的电镀铜溶液，其特征在于：所述聚乙 烯吡咯烷酮是PVPK30、PVPK16～18、PVPK23～27中的任意一种。