[发明专利]二氧化硅溶液制备方法、研磨液及玻璃基板的制造方法

权利要求书

1.一种二氧化硅溶液制备方法，从含有一次粒径为1~80nm的二氧化硅粒子的二氧化硅溶液中除去异物，其特征在于，

对离心加速度G、异物的沉降距离与沉降时间之比(h/t)和所述二氧化硅溶液的粘度η进行控制，以使由下式(1)表示的、要除去的异物的粒径D_p为0.1×1^-41×10^-4cm，

D_p=[18h·η/{(ρ_p-ρ_f)G·t}]^1/2…(1)

其中，式(1)中，D_p为异物的粒径(cm)，h为异物的沉降距离(cm)，η为溶液在处理温度下的粘度(g/cm·s)，ρ_p为异物的密度(g/cm³)，ρ_f为溶剂的密度(g/cm³)，G为离心加速度(cm/s²)，t为异物的沉降时间(s)。

2.如权利要求1所述的二氧化硅溶液制备方法，其中，所述沉降距离与沉降时间之比(h/t)为0.003~0.50(cm/s)。

3.如权利要求1或2所述的二氧化硅溶液制备方法，其中，所述离心加速度G为28000~200000(m/s²)。

4.如权利要求1~3中任一项所述的二氧化硅溶液制备方法，其中，所述溶液的粘度η为0.1~0.5(g/cm·s)。

5.如权利要求1~4中任一项所述的二氧化硅溶液制备方法，其中，所述溶液的pH为1~7。

6.一种研磨液，在磁记录介质用玻璃基板的主平面的研磨中使用，其中，含有通过权利要求1~5中任一项所述的二氧化硅溶液制备方法制备的二氧化硅溶液。

7.一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，具有使用权利要求6所述的研磨液对磁记录介质用玻璃基板的主平面进行研磨的工序。