[发明专利]高分子布料的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种高分子布料，且特别是涉及高分子布料的制造方法。

背景技术

目前常见的一些高分子布料，通常都包括基材以及高分子层。基材通常包括基布以及糊料层，其中糊料层形成于基布上，据以形成高分子布料的基材。据此，于基材上配置不同的高分子层，即可形成不同种类的高分子布料。

一般而言，在制作高分子布料的过程中，往往需要多次的加工剪裁。然而，在加工剪裁时，由于基布容易出现毛边而造成加工操作不易或外观不美化，进而使得后续制作高分子层的制作流畅度不佳。

发明内容

本发明实施例提供一种高分子布料的制造方法，用以降低在加工剪裁过程中高分子布料的基布所产生的毛边。

本发明实施例提供一种高分子布料的制造方法，所述高分子布料的制造方法包括提供基布，而基布具有第一表面以及与第一表面相对的第二表面。涂布硬化剂溶液于第一表面，其中硬化剂溶液包括硬化剂以及甲苯，而硬化剂的范围介于1至5重量份以及甲苯的范围介于95至100重量份，基布的纤维通过硬化剂而彼此连结，据以形成硬化层于该基布上。涂布糊料于硬化层上，据以形成糊料层。形成高分子材料于糊料层之上，据以形成高分子层。

综上所述，本发明实施例通过涂布硬化剂溶液于基布，基布的纤维通过硬化剂而彼此连结以形成纤维束，据以形成硬化层于该基布上。因此，在剪裁加工的过程中，基布的纤维不会散开，基布不会产生毛边。

为使能更进一步了解本发明的特征及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，但是此等说明与所附图式仅是用来说明本发明，而非对本发明的权利要求范围作任何的限制。

附图说明

图1是本发明实施例的高分子布料的结构示意图。

图2是本发明实施例的高分子布料的制造方法的流程示意图。

【主要元件符号说明】

100 高分子布料

110 基材

112 基布

114 硬化层

116 糊料层

120 高分子层

S101~S104 步骤流程

S1 第一表面

S2 第二表面

具体实施方式

图1为本发明实施例的高分子布料的结构示意图。请参阅图1，高分子布料100包括基布112、硬化层114、糊料层116以及高分子层130。基布112具有一第一表面S1以及一与第一表面S1相对的第二表面S2，硬化层114配置于基布112上方，糊料层116配置于硬化层114上方，且高分子层130配置于糊料层116上方。详细而言，基布112、硬化层114与糊料层116的主要用途是作为高分子布料100的基材110。据此，于基材110上配置不同的高分子层120，即可形成不同种类的高分子布料100。

图2为本发明实施例的高分子布料的制造方法的流程示意图。如图2所示，本发明实施例的高分子布料的制造方法主要是于基布112的第一表面S1形成硬化层114，接着于硬化层114上裱糊以形成糊料层116。据此，基材110大致上已经形成。而后再于基材110上面形成高分子层120。

请参阅图2。首先，于步骤S101中，提供基布112，基布112具有第一表面S1以及与第一表面S1相对的第二表面S2。值得注意的是，基布112的材料可以是棉、聚脂纤维、尼龙或者是其他不同组成纤维的混纺针织布。本发明并不对基布112的材料加以限定。

其次，于步骤S102中，涂布硬化剂溶液于基布112的第一表面S1上，据以形成硬化层114于基布112上。详细而言，于此实施例中，基布112通过卷出机而卷出。接着，通过蒸气轮所提供的热能，基布112稍微软化。而后，使用反向轮裱设备涂布硬化剂溶液于基布112上。值得说明的是，反向轮裱设备具有一S型轮裱以及一凹槽，硬化剂溶液放置于凹槽内，而凹槽中心设置有滚轮，而滚轮可以与第一表面S1接触。在输送基布112的过程中，通过S型轮裱得以使得基布112的第一表面S1露出，而基布112被输送至滚轮处时，滚轮旋转并且将硬化剂溶液带起。硬化剂溶液附着于滚轮上，随着滚轮的转动使得硬化剂溶液能够涂布于基布112的第一表面S1上。此外，反向轮裱设备还具有刮刀（doctorblade），因此多余的硬化剂溶液可以通过刮刀刮除，进而使硬化剂溶液得以更均匀地分布于第一表面S1上。