[发明专利]待测光学系统杂散光检测方法及杂散光检测系统

权利要求书

1.一种待测光学系统杂散光检测方法，其特征在于：所述待测光学系统杂散光检测方法包括以下步骤：

1）获取待测光学系统在不同视场角的像面的辐射照度；

2）将待测光学系统更换为衰减片并获取含有该衰减片的辐射照度；

3）根据步骤2）所得到的含有该衰减片的辐射照度获取待测光学系统在入瞳处的辐射照度；

4）根据步骤1）以及步骤3）获取待测光学系统的点源透过率。

2.根据权利要求1所述的待测光学系统杂散光检测方法，其特征在于：所述步骤1）的具体实现方式是：

1.1）激光束转换为平行光束并入射至待测光学系统；

1.2）通过光电探测器测出待测光学系统在不同视场角的像面的辐射照度。

3.根据权利要求2所述的待测光学系统杂散光检测方法，其特征在于：所述步骤2）的具体实现方式是：

2.1）激光束转换为平行光束并入射至衰减片；

2.2）通过光电探测器测出含有该衰减片的辐射照度。

4.根据权利要求3所述的待测光学系统杂散光检测方法，其特征在于：所述步骤3）是根据下述公式而具体实现的：

E(λ)=E′(λ)β(λ)]]>

其中：

E(λ)表示待测光学系统在入瞳处的辐射照度；

E'(λ)表示含有衰减片的辐射照度；

β(λ)表示衰减片的透过率；

λ表示激光波长。