[发明专利]光刻化学品循环系统及其方法

权利要求书

1.一种光刻化学品循环系统，其特征在于，所述光刻化学品循环系统包括：

化学品瓶，所述化学品瓶用于为所述光刻化学品循环系统提供所述光刻化学品；

第一管路，所述第一管路的一端与所述化学品瓶连通，并用于所述光刻化学品进料传输；

第一排泡装置，所述第一排泡装置紧邻所述化学品瓶，并设置在所述第一管路上；

第一压力泵，所述第一压力泵设置在所述第一排泡装置之异于所述化学品瓶一侧的第一管路上；

第一过滤器，所述第一过滤器设置在所述第一压力泵之异于所述第一排泡装置一侧的第一管路上；

喷吐装置，所述喷吐装置设置在所述第一过滤器之异于所述第一压力泵一侧，并位于所述第一管路之异于所述化学品瓶的另一端；

第二管路，所述第二管路用于所述光刻化学品循环系统中的光刻化学品循环，所述第二管路的一端与所述喷吐装置连接，所述第二管路的另一端与介于所述化学品瓶和所述第一排泡装置之间的第一管路连通；

喷头腔室，所述喷头腔室设置在所述第二管路的一端，并与所述喷吐装置紧密相连；

第二排泡装置，所述第二排泡装置紧邻所述喷头腔室，并设置在所述第二管路上；

第二压力泵，所述第二压力泵设置在所述第二排泡装置之异于所述喷头腔室一侧的第二管路上；以及，

第二过滤器，所述第二过滤器设置在所述第二压力泵之异于所述第二排泡装置一侧的第二管路上，并介于所述化学品瓶和所述第一排泡装置之间的第一管路与所述第二压力泵之间。

2.如权利要求1所述的光刻化学品循环系统，其特征在于，所述第二过滤器的孔径根据所述光刻化学品的种类进行设置。

3.如权利要求1所述的光刻化学品循环系统的循环方法，其特征在于，所述方法包括：

执行步骤S1：在未生产时，所述喷吐装置设置在所述喷头腔室内，并形成密闭空间，且所述化学品循环系统处于循环状态；

执行步骤S2：在开始生产时，所述第一压力泵和所述第二压力泵均停止工作，所述喷吐装置脱离所述喷头腔室，并移动至所述半导体晶圆处；

执行步骤S3：所述第一压力泵开始工作，并促使所述喷吐装置向所述半导体晶圆上喷吐光刻化学品；

执行步骤S4：喷吐装置返回所述喷头腔室，所述第一压力泵和所述第二压力泵开始工作，维持所述光刻化学品循环。

4.如权利要求3所述的光刻化学品循环系统的循环方法，其特征在于，所述光刻化学品的循环过程中，采用第一压力泵提供循环压力。

5.如权利要求3所述的光刻化学品循环系统的循环方法，其特征在于，所述光刻化学品的循环过程中同时采用第二压力泵增加循环压力。

6.如权利要求3所述的光刻化学品循环系统的循环方法，其特征在于，所述光刻化学品为光刻工艺中所使用的G线(G-line)、I线(I-line)、KrF、ArF光刻胶、抗反材料，以及填充材料中的其中之一。

7.如权利要求3所述的光刻化学品循环系统的循环方法，其特征在于，所述光刻化学品循环系统适于5英寸、6英寸、8英寸、12英寸的硅片制造设备。