[发明专利]利用激光在低熔点的基底表面制备二氧化钛薄膜的方法

权利要求书

1.一种利用激光在低熔点的基底表面制备二氧化钛薄膜的方法，其特征在于，其步骤包括：

（1）选取透过率大于百分之八十五的基底，且要求其熔点在120到265度之间，用超声波清洗仪清洗并吹干，确保基底表面没有灰尘；

（2）在纳米二氧化钛粉末中滴入水，制成溶胶，并将它涂覆在基底上；

（3）将涂覆了溶胶的基底放在实验平台上，使涂有二氧化钛的一面朝下；打开激光器调整实验平台高度，使激光束的焦点落在基底表面，其中激光器为1064nm的光纤激光器；

（4）绘制出需要在基底上制备二氧化钛薄膜的形状，并调试激光频率为20HZ，扫描速度在750-1000mm/s之间，扫描间隔在0.003-0.007mm之间，扫描功率在3-4瓦间，制备出二氧化钛薄膜；

（5）再利用超声波清洗仪将多余的溶胶清洗掉，得到干净的镀有二氧化钛薄膜的基底。

2.按照权利要求1的方法，其特征在于，基底材料是表面镀有ITO导电薄膜的导电基底。

3.按照权利要求1的方法，其特征在于，溶胶中二氧化钛粉末与水的质量比在1∶1和1∶2之间。

4.按照权利要求1的方法，其特征在于，二氧化钛粉末的粒径在15-20nm间。