[发明专利]有机发光装置的制备方法

权利要求书

1.一种制备有机发光装置的方法，所述方法包括：

在基板上形成有机发射单元；以及

形成包括至少一个包含低温粘度转变无机材料的无机层的薄膜包封层，形成薄膜包封层包括形成所述至少一个无机层，

其中，形成所述至少一个无机层包括：

通过在真空中使用等离子加热包括低温粘度转变无机材料的源，并将从源分离出来的低温粘度转变无机材料或低温粘度转变无机材料的离子沉积在有机发射单元上，在有机发射单元上形成包括低温粘度转变无机材料的预无机层；以及

在大于低温粘度转变无机材料的粘度转变温度的温度下对预无机层应用恢复工艺。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，低温粘度转变无机材料的粘度转变温度是能够使低温粘度转变无机材料具有流动性的最低温度。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，低温粘度转变无机材料的粘度转变温度低于包含在有机发射单元中的材料的变性温度的最低温度。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，低温粘度转变无机材料包括氧化锡。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，低温粘度转变无机材料还包括从氧化磷、磷酸硼、氟化锡、氧化铌和氧化钨组成的组中选择的至少一种。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，低温粘度转变无机材料包括SnO；SnO和P₂O₅；SnO和BPO₄；SnO、SnF₂和P₂O₅；SnO、SnF₂、P₂O₅和NbO；或SnO、SnF₂、P₂O₅和WO₃。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，通过在从低温粘度转变无机材料的粘度转变温度到包含在有机发射单元中的材料的变性温度的最低温度的温度下热处理预无机层来执行恢复工艺的应用。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，通过在80℃至132℃的温度下热处理预无机层1至3小时来执行恢复工艺的应用。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，在真空或惰性气体的气氛中执行恢复工艺的应用。

10.根据权利要求1所述的方法，其中，恢复工艺的应用包括在向预-无机层照射激光束的同时扫描预无机层。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，形成薄膜包封层还包括形成薄膜包封层的至少一个有机层，所述至少一个有机层包含聚合物。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，形成所述至少一个有机层包括提供可固化的前驱体以及固化所述可固化的前驱体。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，通过使用闪蒸器执行提供可固化的前驱体。

14.根据权利要求12所述的方法，其中，通过使用UV射线、红外线和激光束中的至少一种执行对可固化前驱体的固化。

15.根据权利要求11所述的方法，其中，薄膜包封层包括一个有机层和一个无机层，其中，有机层和无机层按顺序堆叠在有机发射单元上。

16.根据权利要求11所述的方法，其中，薄膜包封层包括一个有机层和一个无机层，其中，无机层和有机层按顺序堆叠在有机发射单元上。

17.根据权利要求11所述的方法，其中，薄膜包封层包括包含第一有机层和第二有机层的两个有机层以及一个无机层，其中，第一有机层、无机层和第二有机层按顺序堆叠在有机发射单元上。

18.根据权利要求11所述的方法，其中，薄膜包封层包括一个有机层和包括第一无机层和第二无机层的两个无机层，其中，第一无机层、有机层和第二无机层按顺序堆叠在有机发射单元上。

19.根据权利要求1所述的方法，其中，形成预无机层包括将负电势施加到基板。

20.根据权利要求1所述的方法，其中，形成所述至少一个无机层还包括通过使用化学处理、等离子处理和包括氧气的热室处理或包括氧和潮气的热室处理来应用另一恢复工艺。